[发明专利]抗污染护肤基质及其制备方法和应用以及化妆品在审

专利信息
申请号: 202010325092.6 申请日: 2020-04-23
公开(公告)号: CN111494220A 公开(公告)日: 2020-08-07
发明(设计)人: 曾令椿;王开慧;李婷;裴运林 申请(专利权)人: 广东丸美生物技术股份有限公司
主分类号: A61K8/20 分类号: A61K8/20;A61K8/34;A61K8/42;A61K8/44;A61K8/49;A61K8/55;A61K8/60;A61K8/63;A61K8/73;A61K8/9711;A61K8/9789;A61P17/00;A61P37/08;A61Q17/00
代理公司: 北京超凡宏宇专利代理事务所(特殊普通合伙) 11463 代理人: 刘建荣
地址: 510000 广东省广州市高*** 国省代码: 广东;44
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摘要:
搜索关键词: 污染 护肤 基质 及其 制备 方法 应用 以及 化妆品
【权利要求书】:

1.一种抗污染护肤基质,其特征在于,包括保湿剂和抗污染剂,所述抗污染剂包括Depollutine、Ciste’M、URB、和宇治茶以及Ectoin。

2.根据权利要求1所述的抗污染护肤基质,其特征在于,所述抗污染护肤基质包括以下重量份的组分:

保湿剂10-50份、Depollutine 0.5-3份、Ciste’M 0.5-3份、URB 0.5-3份、和宇治茶0.5-3份以及Ectoin 0.3-2份。

3.根据权利要求1或2所述的抗污染护肤基质,其特征在于,所述抗污染护肤基质还包括以下组分中的至少一种:

消炎剂、防腐剂、抗氧化剂以及螯合剂;

优选地,所述保湿剂包括甘油、丁二醇、双丙甘醇、海藻糖、透明质酸钠、以及泛醇中的至少一种;

优选地,所述消炎剂包括甘草酸二钾、SymRelief 100、以及CalmYang中的至少一种;

优选地,所述防腐剂包括1,2-己二醇、辛甘醇、1,2-戊二醇、以及对羟基苯乙酮中的至少一种;

优选地,所述抗氧化剂包括生育酚乙酸酯;

优选地,所述螯合剂包括EDTA-2Na和/或EDTA-4Na。

4.根据权利要求3所述的抗污染护肤基质,其特征在于,所述抗污染护肤基质还包括具有以下重量份的组分中的至少一种:

消炎剂0.1-5份、防腐剂1-5份、抗氧化剂0.5-3份以及螯合剂0.1-1份。

5.根据权利要求4所述的抗污染护肤基质,其特征在于,所述抗污染护肤基质包括具有以下重量份的组分:

保湿剂10-50份、Depollutine 0.5-3份、Ciste’M 0.5-3份、URB 0.5-3份、和宇治茶0.5-3份、Ectoin 0.3-2份、消炎剂0.1-5份、防腐剂1-5份、抗氧化剂0.5-3份、螯合剂0.1-1份、以及余量的水,以上各组分的重量份之和为100份。

6.一种权利要求1-5任一项所述的抗污染护肤基质的制备方法,其特征在于,包括将保湿剂和抗污染剂混合,得到所述抗污染护肤基质;

其中,所述抗污染剂包括Depollutine、Ciste’M、URB、和宇治茶以及Ectoin。

7.根据权利要求6所述的制备方法,其特征在于,先将保湿剂加热溶解,再将其余组分加入到保湿剂中,得到所述抗污染护肤基质;

优选地,所述加热溶解的温度为80-90℃;

优选地,将保湿剂加热溶解后进行均质处理后再加入其余组分;

优选地,所述均质处理的时间为25-35s。

8.根据权利要求7所述的制备方法,其特征在于,包括:

将水和保湿剂加热至85℃,均质30s,使保湿剂完全溶解,得到混合物;

待所述混合物降温至45℃后在所述混合物中加入其余组分。

9.一种权利要求1-5任一项所述的抗污染护肤基质在化妆品制备中的应用。

10.一种化妆品,其特征在于,包括权利要求1-5任一项所述的抗污染护肤基质。

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