[发明专利]激光快速处理方法及装置

权利要求书

1.一种激光快速处理方法，包括：

将激光束沿着旋转单元的旋转轴中心传导；然后经过导向、整形和聚焦后离开旋转单元，照射到待处理样品上对样品进行激光处理；

其中，照射到待处理样品上的激光束随着旋转单元的旋转，在空间中做圆周运动，且待处理样品相对于旋转单元做平移运动。

2.根据权利要求1所述的激光快速处理方法，其特征在于，

所述旋转单元的中心轴为旋转轴。

3.根据权利要求1所述的激光快速处理方法，其特征在于，

所述旋转单元的旋转面与待处理样品表面平行。

4.根据权利要求1所述的激光快速处理方法，其特征在于，

所述待处理样品的移动方向与旋转单元的旋转面平行。

5.根据权利要求1所述的激光快速处理方法，其特征在于，

所述旋转单元包括旋转台。

6.一种激光快速处理装置，包括：

样品台，承载待激光处理的样品；

旋转单元，设置在样品台上方，内部设有激光束导向、整形和聚焦元件，激光穿过旋转单元的旋转轴，经过导向、整形和聚焦后照射到待处理的样品上；以及

滑台，承载样品台进行移动或者是承载旋转台进行移动。

7.根据权利要求6所述的激光快速处理装置，其特征在于，

所述旋转单元的中心轴为旋转轴。

8.根据权利要求6所述的激光快速处理装置，其特征在于，

所述旋转单元的回旋面与样品台载片台面平行。

9.根据权利要求6所述的激光快速处理装置，其特征在于，

所述滑台滑动方向与样品台载片台面平行。

10.根据权利要求6所述的激光快速处理装置，其特征在于，

所述旋转单元包括旋转台。