[发明专利]掩膜版、掩膜组件以及掩膜组件的制造方法

权利要求书

1.一种掩膜组件，其特征在于，所述掩膜组件包括：

掩膜框架；及

至少两个掩膜版，沿第一方向排布于所述掩膜框架；

其中，相邻的两个所述掩膜版彼此搭接以在第二方向上具有交叠区域，所述掩膜版沿所述第二方向具有彼此相对的第一侧和第二侧，所述掩膜版的所述第一侧具有与相邻的一个所述掩膜版接触的第一支撑面，以及与相邻的另一个所述掩膜版接触的第二支撑面，以使所述掩膜版呈T型结构；

至少一所述交叠区域的两个所述掩膜版彼此接触的表面为相互匹配的非平面；

其中，所述第一方向平行于所述掩膜框架，所述第二方向垂直于所述掩膜框架，所述第一方向与所述第二方向相互垂直。

2.根据权利要求1所述的掩膜组件，其特征在于，所述掩膜版包括第一支撑部、第二支撑部以及沿所述第一方向位于所述第一支撑部和所述第二支撑部之间的主体部；

所述第一支撑面形成于所述第一支撑部，所述第二支撑面形成于所述第二支撑部；

其中，所述第三方向同时垂直于所述第一方向和所述第二方向。

3.根据权利要求2所述的掩膜组件，其特征在于，所述第一支撑部和所述第二支撑部以所述主体部的沿第三方向的中心线对称设置。

4.根据权利要求1所述的掩膜组件，其特征在于，所述至少两个掩膜版包括多个上掩膜版和多个下掩膜版，所述上掩膜版与所述下掩膜版沿所述第一方向交替排列，且任一所述上掩膜版在第二方向上支撑于与其相邻的所述下掩膜版上。

5.根据权利要求4所述的掩膜组件，其特征在于，所述上掩膜版包括第一上支撑部、第二上支撑部以及沿所述第一方向位于所述第一上支撑部和所述第二上支撑部之间的上主体部，所述第一上支撑部与所述第二上支撑部在所述第二方向上位于上主体部一侧。

6.根据权利要求4所述的掩膜组件，其特征在于，所述下掩膜版包括第一下支撑部、第二下支撑部以及沿第一方向位于所述第一下支撑部和所述第二下支撑部之间的下主体部，所述第一下支撑部与所述第二下支撑部在第二方向上位于所述下主体部一侧。

7.根据权利要求1所述的掩膜组件，其特征在于，所述非平面沿所述第二方向的截面轮廓线呈波浪状。

8.根据权利要求1所述的掩膜组件，其特征在于，所述掩膜版开设有沿所述第二方向贯穿的蒸镀孔；

位于同一所述交叠区域的两个所述掩膜版开设的所述蒸镀孔一一对应连通，对应连通的所述蒸镀孔共同形成蒸镀通道。

9.一种掩膜版，其特征在于，所述掩膜版沿一方向具有彼此相对的第一侧和第二侧；

所述掩膜版具有与相邻的一个所述掩膜版接触的第一支撑面，以及与相邻的另一个所述掩膜版接触的第二支撑面；

所述第一支撑面和所述第二支撑面设于所述第一侧和所述第二侧中的任一侧，以使所述掩膜版呈T型结构；

所述第一支撑面和所述第二支撑面中的至少一个支撑面包括非平面，以使两个所述掩膜版彼此接触的表面为相互匹配的非平面。

10.一种掩膜组件的制造方法，其特征在于，包括以下步骤：

提供一掩膜框架；

在所述掩膜框架上设置至少两个沿第一方向依次排布的掩膜版；

其中，相邻的两个所述掩膜版彼此搭接以在第二方向上具有交叠区域，所述掩膜版沿所述第二方向具有彼此相对的第一侧和第二侧，所述掩膜版的所述第一侧具有与相邻的一个所述掩膜版接触的第一支撑面，以及与相邻的另一个所述掩膜版接触的第二支撑面，以使所述掩膜版呈T型结构；

至少一所述交叠区域的两个所述掩膜版彼此接触的表面为相互匹配的非平面；

其中，所述第一方向平行于所述掩膜框架，所述第二方向垂直于所述掩膜框架，所述第一方向与所述第二方向相互垂直。

11.根据权利要求10所述的掩膜组件的制造方法，其特征在于，所述掩膜版贯穿开设有蒸镀孔，掩膜组件的制造方法还包括以下步骤：

填充可去除的填充结构于所述蒸镀孔中。