[发明专利]具有防污染装置的光电设备在审

专利信息
申请号: 202010289214.0 申请日: 2020-04-14
公开(公告)号: CN113521972A 公开(公告)日: 2021-10-22
发明(设计)人: 杨佳翼;胡飞;亓森林;郭丹丹 申请(专利权)人: 深圳光峰科技股份有限公司
主分类号: B01D53/26 分类号: B01D53/26;B01D49/00;G03B21/54
代理公司: 深圳市智圈知识产权代理事务所(普通合伙) 44351 代理人: 周献
地址: 518000 广东省深圳市南山区粤*** 国省代码: 广东;44
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 具有 污染 装置 光电 设备
【说明书】:

发明提供一种具有防污染装置的光电设备,其包括光学器件、光学腔体和防污染装置,所述光学腔体为密闭腔体,并用于收容所述光学器件;所述防污染装置固定于所述光学腔体,所述防污染装置包括吸附装置,所述吸附装置包括吸附体和/或冷面,用于吸附空气环境物质。与相关技术相比,本发明的具有防污染装置的光电设备光学性能更优,使用寿命更长。

技术领域

本发明涉及投影设备技术领域,尤其涉及一种具有防污染装置的光电设备。

背景技术

随着经济水平和生活水平的提高,投影设备的使用越来越广泛。

然而,投影机在使用过程中,受内外部环境的影响,如挥发物、湿气以及灰尘的影响容易引起机器故障、器件损坏、寿命降低等问题。

其中,挥发物的影响指的是在光学密闭腔体内,由于高温和光照的影响,腔体内的挥发体(易挥发的涂层、脏的结构件等)会释放出小分子物质,这些挥发物会附着在光敏感器件(方棒、棱镜、DMD、透镜等)的表面,影响出光亮度、对比度,甚至导致光热敏感器件烧毁;湿气的影响指的是机器在开关机后出现机器内部凝结水汽,导致镜头凝露,机器内部凝结水珠,污染与腐蚀机器内部,甚至引起关键器件烧毁。同时,光源中激光器等敏感器件在低温环境中常在玻璃表面凝露。此外,机器在潮湿腐蚀环境中工作,高湿度的环境使得机器产生腐蚀;最后,灰尘的影响是指投影机长期暴露在使用环境中,在投影机内部会不断累积灰尘,在光路中的灰尘会影响光学性能(亮度、对比度等)。并且,附着在光敏感器件上的灰尘,会引起光敏感器件烧毁。由于灰尘的影响,对安装环境和防护要求很高,成本高。

目前投影设备的防护设计是在整机上放置防尘网,但是这只能防止部分灰尘入侵。受产品密封性限值,仍无法防止湿气及灰尘入侵进入产品内部,同时产品内部也会在高温光照情况下产生挥发物。现有设计无法解决此类问题。

因此有必要提供一种具有防污染装置的光电设备解决上述问题。

发明内容

本发明的目的在于提供一种故障率低且使用寿命更长的具有防污染装置的光电设备。

为达到上述目的,本发明提供了一种具有防污染装置的光电设备,包括光学器件;光学腔体,所述光学腔体为密闭腔体,并用于收容所述光学器件;防污染装置,所述防污染装置固定于所述光学腔体,所述防污染装置包括吸附装置,所述吸附装置包括吸附体和/或冷面,用于吸附空气环境物质。

优选的,所述防污染装置贴合固定于所述光学腔体内壁和/或外壁。

优选的,所述防污染装置的吸附装置贴合固定于所述光学腔体内壁,所述防污染装置还包括吸收处理装置,所述吸收处理装置与所述吸附装置连通,所述吸收处理装置包括导流槽和集液装置,所述导流槽包括相互连通的进口端和出口端,所述进口端与所述吸附装置连通,所述出口端位于所述光学腔体外,并与所述集液装置相连接。

优选的,所述吸附装置包括吸附体和冷面,所述吸附体贴合固定于所述光学腔体内壁,所述冷面盖设于所述吸附体远离所述光学腔体内壁和/或外壁的一侧。

优选的,所述吸附装置包括冷面,所述冷面贴合固定于所述光学腔体内壁,且所述冷面为相对冷面。

优选的,所述相对冷面为球面体。

优选的,所述吸附装置包括冷面,所述冷面贴合固定于所述光学腔体内壁,且所述冷面为自动制冷面,所述光学器件包括激光器,所述激光器与所述冷面连接。

优选的,所述吸附体为带电体、多孔结构以及高活性物质中的任意一种或多种。

优选的,所述多孔结构为过滤网或分子筛;所述高活性物质为活性氧化铝或硅胶干燥剂。

优选的,所述相对冷面包括主体部和凸起部,所述主体部贴合固定于所述光学腔体内壁,所述凸起部由所述主体部向所述光学器件凸起设置,且呈半球状。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于深圳光峰科技股份有限公司,未经深圳光峰科技股份有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/202010289214.0/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top