[发明专利]星空蓝窑变釉及其制备方法、及应用该釉的卫生陶瓷

权利要求书

1.一种星空蓝窑变釉，其特征在于：应用于卫生陶瓷，包括底釉和面釉；

按重量百分数计算，所述底釉的原料包括石英25～32wt%、钾长石15～25wt%、钠长石5～15wt%、惠州水洗白土6～10wt%、重质碳酸钙5～12wt%、偏硅酸钙7～15wt%、高温熔块2～6wt%、白云石3～8wt%、煅烧氧化锌2～7wt%、氧化钴0.5～2wt%，三氧化二铁2～5wt%和甲基纤维素0.2～0.5wt%；

按重量百分数计算，所述面釉的原料包括硅酸锆1～4wt%、石英22～30wt%、钾长石18～28wt%、钠长石6～12wt%、重质碳酸钙5～12wt%、偏硅酸钙6～15wt%、惠州水洗白土5～10wt%、煅烧氧化锌3～10wt%、高温熔块5～10wt%、钛白粉2～6wt%、氧化钴1～3wt%和甲基纤维素0.2～0.5wt%。

2.根据权利要求1所述的星空蓝窑变釉，其特征在于：按重量百分数计算，所述高温熔块的化学组成包括CaO 12～16wt%、Al₂O₃ 10～13wt%、SiO₂ 60～65wt%、K₂O 3.5～4.2wt% 、Na₂O 2.5～4wt%、B₂O₃ 1.5～3.5wt%。

3.根据权利要求1所述的星空蓝窑变釉，其特征在于：所述高温熔块的烧成温度为1150～1280℃。

4.根据权利要求1所述的星空蓝窑变釉，其特征在于：所述底釉的釉层厚度为0.5～0.7mm，所述面釉的釉层厚度为0.1～0.2mm。

5.根据权利要求1所述的星空蓝窑变釉，其特征在于：所述底釉的原料中，三氧化二铁和氧化钴的粒度均为300～600目；所述面釉的原料中，钛白粉和氧化钴的粒度均为300～600目。

6.根据权利要求1至5任意一项所述的星空蓝窑变釉的制备方法，其特征在于，包括以下步骤：

底釉制备步骤，按重量百分数计算，将石英25～32wt%、钾长石15～25wt%、钠长石5～15wt%、惠州水洗白土6～10wt%、重质碳酸钙5～12wt%、偏硅酸钙7～15wt%、高温熔块2～6wt%、白云石3～8wt%、煅烧氧化锌2～7wt%、氧化钴0.5～2wt%和甲基纤维素0.2～0.5wt%放入球磨机内球磨后过筛，然后往过筛后的浆料加入2～5wt%三氧化二铁并混合均匀，静止放置，制得底釉；

面釉制备步骤，按重量百分数计算，将硅酸锆1～4wt%、石英22～30wt%、钾长石18～28wt%、钠长石6～12wt%、重质碳酸钙5～12wt%、偏硅酸钙6～15wt%、惠州水洗白土5～10wt%、煅烧氧化锌3～10wt%、高温熔块5～10wt%和甲基纤维素0.2～0.5wt%放入球磨机内球磨后过筛，然后往过筛后的浆料加入2～6wt%钛白粉和1～3wt%氧化钴并混合均匀，静止放置，制得面釉；

施釉步骤，先在卫生陶瓷坯体上施所述底釉形成底釉层，然后在所述底釉层施所述面釉形成面釉层；

烧成步骤，将完成所述施釉步骤的卫生陶瓷坯体在窑炉内烧制，制得所述星空蓝窑变釉。

7. 根据权利要求6所述的星空蓝窑变釉的制备方法，其特征在于：所述底釉制备步骤中，球磨粒度控制在颗粒粒径低于 10μm的颗粒达到55～60%；

所述面釉制备步骤中，球磨粒度控制在颗粒粒径低于 10μm的颗粒达到60～65%。

8.根据权利要求6所述的星空蓝窑变釉的制备方法，其特征在于：所述烧成步骤中，烧制的温度曲线设置为先将温度从常温升高至350℃，耗时2小时；继续升温至600℃，耗时2小时；升温至800℃，耗时1.5小时；升温至900℃，耗时1.5小时；升温至1100℃，耗时1.5小时；升温至1215℃，耗时1小时；降温至1000℃，耗时0.5h，降温至600℃，耗时3h，最后降温至常温3h。