[发明专利]一种可支撑的双吸盘真空吸笔

说明书

本发明公开了一种可支撑的双吸盘真空吸笔，包括真空吸笔及支架，本发明采用将真空吸笔设于支架上转动笔座的转套上，并在真空吸笔的吸附口上套装双吸咀组件，通过两件吸盘及吸咀同时吸附样品，确保吸盘吸附样品的稳定性；通过调节组件调整第一支撑杆及第二支撑杆，可获得真空吸笔精准地放置样品的高度位置，通过旋转手柄转动转盘及立柱，可驱动真空吸笔在指定的高度位置360°平面旋转，将真空吸笔吸盘上的样品平稳吸附并精准地放置到原位样品杆中，避免了多次放置样品造成损伤，确保电镜原位测试样品的顺利进行。本发明具有结构简单，实用方便，吸附稳定的优点。

技术领域

本发明涉及电镜原位技术领域，尤其是一种可支撑的双吸盘真空吸笔。

背景技术

随着电镜原位技术的不断成熟和发展，TEM透射电子显微镜不再仅仅表征材料外部形貌，还可以实现高精度的纳米加工、性能测试，深入观察材料内部的晶格缺陷。通过采用各式各样的原位测样品品杆，如：力场、热场、光场等，能够对样品施加不同的外部场进行动态观测，进一步研究半导体器件的内部构造。但是，由于样品杆需要置入TEM透射电子显微镜的真空室中，一定程度上限制了样品的大小，并且由于研究者需要深层次观测样品的晶体结构以及在各种原位场下结构的动态变化，一定程度上限制了样品的厚度。采用FIB切割技术制成的样品厚度一般约为几十纳米至一百纳米左右，由于样品的体积过小，传统的手动的样品夹持方法，由于人为意识的紧张，夹持会造成颤抖，在夹持过程中较难保持一定的平稳，往往需要多次尝试才能够将样品成功置入样品杆中，多次放置易造成样品损坏。对于小体积样品而言，哪怕样品轻微的损伤，从而对吸附样品的近一步研究都会产生一定程度的影响，因此，如何将样品平稳无损坏且精准地放入原位样品杆中，并置入TEM透射电子显微镜的真空室内，是完成测试的基本保障。专利“一种真空吸笔”（专利号 201720319928）公开了一种真空吸笔，通过调整笔杆的长度吸附样品。然而，由于该吸笔采用传统的手持方式，难以避免人为的颤抖，从而无法将样品平稳吸附及精准地放置到原位样品杆中。此外，现有技术的真空吸笔均采用单吸咀吸附样品，存在的问题是，单吸咀吸附样品会导致吸附的稳定性差，导致吸盘与样品会发生轻微摆动，无法保证样品精准地放置到原位样品杆中，为此，平稳吸附样品及精准地放置样品是完成电镜原位测试样品的基本保障。

发明内容

本发明的目的是针对现有技术的不足而提供的一种可支撑的双吸盘真空吸笔，本发明采用将真空吸笔设于支架上转动笔座的转套上，并在真空吸笔的吸附口上套装双吸咀组件，通过两件吸盘及吸咀同时吸附样品，确保吸盘吸附样品的稳定性；通过调节组件调整第一支撑杆及第二支撑杆，可获得真空吸笔精准地放置样品的高度位置，通过旋转手柄转动转盘及立柱，可驱动真空吸笔在指定的高度位置360°平面旋转，将真空吸笔吸盘上的样品平稳吸附并精准地放置到原位样品杆中，避免了多次放置样品造成损伤，确保电镜原位测试样品的顺利进行。本发明具有结构简单，实用方便的优点。

实现本发明目的的具体技术方案是：

一种可支撑的双吸盘真空吸笔，其特点包括真空吸笔及支架；

所述真空吸笔上设有吸附口及双吸咀组件；

所述双吸咀组件由笔杆连接帽、过滤网、缓冲管、吸盘、吸咀及固定盖组成；

所述固定盖为圆片状，其上沿径向设有两个吸咀孔；

所述缓冲管为圆管状，缓冲管的一端设有固定盖座，缓冲管内设有滤网座；

所述笔杆连接帽为设有大端及小端的梯形筒状，其小端设有缓冲管接口；

所述吸盘及吸咀均为两件，吸咀的一端与吸盘连接，吸咀的另一端与固定盖的吸咀孔连接；

所述固定盖设于缓冲管的固定盖座上；

所述缓冲管设于笔杆连接帽的缓冲管接口上，过滤网设于缓冲管内的滤网座上；

所述笔杆连接帽的大端与真空吸笔的吸附口连接；