[发明专利]用于清洗压滤机滤饼的清洗装置及清洗方法

权利要求书

1.一种用于清洗压滤机滤饼的清洗装置，其特征在于，包括清洗泵(6)、第一清洗罐(10)、第二清洗罐(11)、第三清洗罐(12)和第四清洗罐(13)；

所述第一清洗罐(10)出液端上设置有三洗洗涤阀(14)、所述第二清洗罐(11)出液端上设置有二洗洗涤阀(15)，所述第三清洗罐(12)出液端上设置有一洗洗涤阀(16)，所述三洗洗涤阀(14)、所述二洗洗涤阀(15)、所述一洗洗涤阀(16)与所述清洗泵(6)进液端连接；

所述清洗泵(6)出液端与立式压滤机(1)进液端连接，所述立式压滤机(1)出液端通过管线(22a)分别与所述第二清洗罐(11)进液端、所述第三清洗罐(12)进液端和所述第四清洗罐(13)进液端连接；

所述第一清洗罐(10)进液端的管线上设置有补水阀(24)，通过补水阀(24)与清洗水源连接；

所述第二清洗罐(11)进液端的管线上设置有三洗滤液阀(19)，所述第三清洗罐(12)进液端上设置有二洗滤液阀(17)，所述第四清洗罐(13)进液端上设置有一洗滤液阀(18)。

2.根据权利要求1所述的用于清洗压滤机滤饼的清洗装置，其特征在于，所述第四清洗罐(13)出液端与冲洗废液泵(20)进液端连接。

3.根据权利要求1所述的用于清洗压滤机滤饼的清洗装置，其特征在于，所述第四清洗罐(13)出液端与再浆补水泵(21)进液端连接。

4.根据权利要求1所述的用于清洗压滤机滤饼的清洗装置，其特征在于，反渗透设备(5)作为所述清洗水源，所述第一清洗罐(10)进液端通过补水阀(24)与所述反渗透设备(5)连接。

5.根据权利要求1～4中任一所述的用于清洗压滤机滤饼的清洗装置，其特征在于，所述立式压滤机(1)出液端与所述管线(22a)之间设置有滤液总阀(22)。

6.利用权利要求1～5中任一所述的用于清洗压滤机滤饼的清洗装置除去氧化镁滤饼中氯离子的方法，其特征在于，包括如下步骤：

第一步骤(S2)，开启一洗洗涤阀(16)和一洗滤液阀(18)、清洗泵(6)，第三清洗罐(12)内的水由清洗泵(6)泵入立式压滤机(1)内，对压滤产生的氢氧化镁滤饼进行第一次清洗，清洗后的水作为冲洗废液进入第四清洗罐(13)内；

第二步骤(S3)，一定时间后，开启二洗洗涤阀(15)和二洗滤液阀(17)，使用第二清洗罐(11)内的水对立式压滤机(1)内的氢氧化镁滤饼进行第二次清洗，清洗后得到水作为第一次清洗用水排入第三清洗罐(12)内；

第三步骤(S4)，在开启二洗洗涤阀(15)和二洗滤液阀(17)的同时关闭一洗洗涤阀(16)、一洗滤液阀(18)、结束第一次清洗；

第四步骤(S5)，一定时间后，开启三洗洗涤阀(14)和三洗滤液阀(19)，使用第一清洗罐(10)内的水对立式压滤机(1)内的氢氧化镁滤饼进行第三次清洗，清洗后得到水作为第二次清洗用水排入第二清洗罐(11)内；

第五步骤(S6)，在开启三洗洗涤阀(14)和三洗滤液阀(19)的同时关闭二洗洗涤阀(15)和二洗滤液阀(17)，结束第二次清洗；

第六步骤(S7)，一定时间后，关闭三洗洗涤阀(14)和三洗滤液阀(19)，清洗泵(6)，清洗结束。

7.根据权利要求6所述的方法，其特征在于，第一次清洗时，立式压滤机(1)进水压力为0.84兆帕，第二次清洗时，立式压滤机(1)进水压力为0.84兆帕，第三次清洗时，立式压滤机(1)进水压力为0.84兆帕，清洗结束后开启立式压滤机(1)的回料阀，使进料压力降至0兆帕。

8.根据权利要求6或7所述的方法，其特征在于，第四清洗罐(13)中的洗涤水送至再浆槽内进行氢氧化镁滤饼调浆或通过膜过滤浓缩系统回收溶液中的氢氧化镁、氯化钠和用于洗涤滤饼的水。