[发明专利]具有高对准精度的MEMS麦克风腔体板及其制作方法有效
| 申请号: | 202010273784.0 | 申请日: | 2020-04-09 |
| 公开(公告)号: | CN111343553B | 公开(公告)日: | 2021-02-19 |
| 发明(设计)人: | 马洪伟;陆敏晨 | 申请(专利权)人: | 江苏普诺威电子股份有限公司 |
| 主分类号: | H04R19/04 | 分类号: | H04R19/04;H04R31/00 |
| 代理公司: | 昆山中际国创知识产权代理有限公司 32311 | 代理人: | 盛建德;张小培 |
| 地址: | 215300 江苏省*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 具有 对准 精度 mems 麦克风 腔体板 及其 制作方法 | ||
1.一种具有高对准精度的MEMS麦克风腔体板的制作方法,其特征在于:包括以下步骤:
步骤1)、通过注塑成型工艺制得无铜基板(B0),所述无铜基板(B0)上一体成型有分别贯穿其正反两面的通孔(10)和通槽(11);
步骤2)、对所述无铜基板(B0)进行化学沉铜、及电镀工艺处理,以实现在所述无铜基板(B0)的正反两面、所述通孔(10)内壁、及所述通槽(11)内壁上均分别镀上一层第一铜箔(2),得到覆铜基板(B1);
步骤3)、先向所述通孔(10)中塞满树脂(3),再对所述覆铜基板(B1)进行化学沉铜、及电镀工艺处理,以实现在所述树脂(3)端面及所述第一铜箔(2)表面上均分别镀上一层第二铜箔(4),得到第一基板(B2);
步骤4)、在所述第一基板(B2)的第二铜箔(4)表面上进行压膜、曝光和显影作业,以实现在所述第二铜箔(4)表面上形成有干膜覆盖的线路成型区域、以及无干膜覆盖的裸铜区域,然后通过电镀技术在所述裸铜区域上镀上一层锡层(5),得到第二基板(B3);
步骤5)、先去除所述第二基板(B3)上的干膜,再对所述线路成型区域进行蚀刻作业,以在所述线路成型区域上制作出线路图形;随后再将所述锡层(5)全部去除,即制得该具有高对准精度的MEMS麦克风腔体板(B4)。
2.根据权利要求1所述的具有高对准精度的MEMS麦克风腔体板的制作方法,其特征在于:所述无铜基板(B0)采用熔融固化类的封装胶制成。
3.根据权利要求1所述的具有高对准精度的MEMS麦克风腔体板的制作方法,其特征在于:位于所述树脂(3)端面上的第二铜箔(4)和位于所述第一铜箔(2)表面上的第二铜箔(4)相齐平衔接。
4.根据权利要求1所述的具有高对准精度的MEMS麦克风腔体板的制作方法,其特征在于:所述线路成型区域与所述通孔(10)位置相对应配合。
5.一种具有高对准精度的MEMS麦克风腔体板,采用权利要求1-4中任意一项所述的具有高对准精度的MEMS麦克风腔体板的制作方法制备而成。
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