[发明专利]一种光学膜及其制备方法、光学膜的应用结构

权利要求书

1.一种光学膜的制备方法，其特征在于，包括：

采用“卷到卷”生产工艺在基材表面形成涂层组，所述涂层组包括N层第一涂层和M层第二涂层，所述第一涂层和第二涂层交替层叠设置；M和N均为大于或等于1的整数；

所述第一涂层和所述第二涂层均为有机涂层，所述第一涂层的折射率大于所述第二涂层的折射率。

2.根据权利要求1所述的光学膜的制备方法，其特征在于，所述在基材表面形成涂层组包括：

利用第一有机材料，采用“卷到卷”生产工艺制备所述第一涂层；

利用第二有机材料，采用“卷到卷”生产工艺制备所述第二涂层。

3.根据权利要求2所述的光学膜的制备方法，其特征在于，所述“卷到卷”生产工艺包括：湿法涂布工艺或干法真空镀膜工艺。

4.根据权利要求3所述的光学膜的制备方法，其特征在于，所述湿法涂布工艺包括精密线棒涂布工艺、微凹辊涂布工艺或狭缝挤出涂布工艺；

所述干法真空镀膜工艺包括真空蒸镀工艺。

5.根据权利要求2所述的光学膜的制备方法，其特征在于，所述第一有机材料包括：引入含有芳基或取代芳基结构单元的第一预设有机高分子材料或混入表面改性纳米颗粒的第一预设有机高分子材料，所述表面改性纳米颗粒的折射率大于或等于预设值。

6.根据权利要求2所述的光学膜的制备方法，其特征在于，所述第二有机材料包括：引入含氟结构单元的第二预设有机高分子材料，或经过多孔处理工艺进行处理的所述第二预设有机高分子材料。

7.根据权利要求6所述的光学膜的制备方法，其特征在于，所述对所述有机涂层进行多孔处理工艺，以获得所述第二涂层包括：

对所述有机涂层进行模板技术、纳米刻蚀技术、纳米印迹技术、溶剂挥发诱导技术或自组装技术处理，以获得具有通孔和/或凹槽和/或发泡结构的有机涂层作为所述第二涂层。

8.一种光学膜，其特征在于，包括：

基材；

位于所述基材表面的涂层组，所述涂层组包括N层第一涂层和M层第二涂层，所述第一涂层和第二涂层交替层叠设置；M和N均为大于或等于1的整数；

所述第一涂层和所述第二涂层均为有机涂层，所述第一涂层的折射率大于所述第二涂层的折射率。

9.根据权利要求8所述的光学膜，其特征在于，所述第一涂层的折射率与所述第二涂层的折射率的差值的取值范围为0.04-0.6。

10.根据权利要求8所述的光学膜，其特征在于，所述第一涂层和第二涂层的光学厚度的数量级为预设波长的四分之一。

11.根据权利要求8所述的光学膜，其特征在于，所述第一涂层和第二涂层中还掺杂有染料或其他功能性填料。

12.一种光学膜的应用结构，其特征在于，包括：

待贴附结构；

作为所述待贴附结构的装饰层和/或功能层的至少一层光学膜，所述光学膜为权利要求8-11任一项所述的光学膜。