[发明专利]显示装置在审

专利信息
申请号: 202010267970.3 申请日: 2020-04-08
公开(公告)号: CN111323962A 公开(公告)日: 2020-06-23
发明(设计)人: 顾跃凤;王建栋 申请(专利权)人: 上海天马微电子有限公司
主分类号: G02F1/1335 分类号: G02F1/1335;G02F1/13357;H01L27/32
代理公司: 北京东方亿思知识产权代理有限责任公司 11258 代理人: 娜拉
地址: 200120 上海*** 国省代码: 上海;31
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 显示装置
【说明书】:

发明公开了一种显示装置。包括:显示层,包括衬底基板以及位于衬底基板上阵列排布的多个第一子像素和第二子像素,显示层具有出光侧;分光元件,设置于显示层的出光侧,分光元件包括与第一子像素对应设置的第一单元和与第二子像素对应设置的第二单元,第一单元包括第一凸起和第一反射层,第一凸起具有第一反射面和第一出射面,第一反射层设置于第一反射面,第二单元包括第二凸起和第二反射层,第二凸起具有第二反射面和第二出射面,第二反射层设置于第二反射面,第二反射面与第二出射面在衬底基板上的正投影与对应的第二子像素在衬底基板上的正投影交叠,第一反射面与第二反射面的倾斜方向相反。本发明公开的显示装置能够提升双视角显示效果。

技术领域

本发明属于显示技术领域,尤其涉及一种显示装置。

背景技术

目前双视角显示装置中,多采用平面光栅来实现双视角显示。通过光栅实现不同角度的可视区域,但是相邻可视区域之间的存在较大的串扰区域,影响显示效果。

发明内容

本发明实施例提供了一种显示装置,旨在提升显示装置的双视角显示效果。

第一方面,本发明提供一种,包括:显示层,包括衬底基板以及位于衬底基板上阵列排布的多个第一子像素和第二子像素,显示层具有出光侧;分光元件,设置于显示层的出光侧,分光元件包括与第一子像素对应设置的第一单元和与第二子像素对应设置的第二单元,第一单元包括第一凸起和第一反射层,第二单元包括第二凸起和第二反射层,第一凸起和第二凸起均由平行于衬底基板的平面起始向背离衬底基板一侧凸出,第一凸起具有第一反射面和第一出射面,第一反射层设置于第一反射面,第一出射面背离衬底基板一侧具有第一透光介质,第一出射面所在平面与衬底基板呈第一角度θ1设置,第一反射面所在平面与衬底基板、第一出射面所在平面均呈角度α设置,第一凸起的折射率n1、第一透光介质的折射率n2与第一角度θ1满足:θ1≥arcsin(n2/n1),第一反射面与第一出射面在衬底基板上的正投影与对应的第一子像素在衬底基板上的正投影交叠,第二凸起具有第二反射面和第二出射面,第二反射层设置于第二反射面,第二出射面背离衬底基板一侧具有第二透光介质,第二出射面所在平面与衬底基板呈第二角度θ2设置,第二反射面所在平面与衬底基板、第二出射面所在平面均呈角度β设置,第二凸起的折射率n3、第二透光介质的折射率n4与第二角度θ2满足:θ2≥arcsin(n4/n3),第二反射面与第二出射面在衬底基板上的正投影与对应的第二子像素在衬底基板上的正投影交叠,其中,第一反射面与第二反射面的倾斜方向相反。

本发明实施例中,通过在显示层的出光侧设置分光元件,分光元件的第一单元和第二单元分别对应显示层的第一子像素和第二子像素设置,第一子像素发出的光线可以部分经由第一单元的第一反射面反射后从第一出射面垂直出射,还有一部分在第一单元的第一出射面发生全反射后,再在其他界面反射后从第一出射面垂直出射,第二子像素发出的光线可以部分经由第二单元的第二反射面反射后从第二出射面垂直出射,还有一部分在第二单元的第二出射面发生全反射后,再在其他界面反射后从第二出射面垂直出射。在第一反射面和第二反射面分别设置第一反射层和第二反射层,能够避免光线在第一反射面和第二反射面发生折射而影响显示装置的出光效率,且光线从显示层入射至第一出射面和第二出射面能够发生全反射后,再经反射后从第一出射面和第二出射面出射,防止光线在入射至第一出射面和第二出射面时同时发生折射和反射,造成光线能量的损失,影响出光效率,还可以避免光线在第一出射面和第二出射面发生折射后的光线射入相邻的单元而对显示效果造成影响,以此可以提升双视角的显示效果。

附图说明

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于上海天马微电子有限公司,未经上海天马微电子有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/202010267970.3/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top