[发明专利]一种研磨抛光浆料及镜面板制备方法在审
| 申请号： | 202010263410.0 | 申请日： | 2020-04-07 |
| 公开（公告）号： | CN111534232A | 公开（公告）日： | 2020-08-14 |
| 发明（设计）人： | 桑志宏;江惠;张子峰;陈斌 | 申请（专利权）人： | 海门市森达装饰材料有限公司 |
| 主分类号： | C09G1/02 | 分类号： | C09G1/02;C23F3/06;B24B1/00 |
| 代理公司： | 南京瑞弘专利商标事务所(普通合伙) 32249 | 代理人： | 彭雄 |
| 地址： | 226010 江*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 一种 研磨 抛光 浆料 面板 制备 方法 | ||
1.一种研磨抛光浆料，其特征在于：包括有机酸和二氧化硅，其中二氧化硅的质量比为2.2±0.2%；浆料的pH值为5.5-6.3，浆料的细度为1500目以上。
2.根据权利要求1所述研磨抛光浆料，其特征在于：还包括重金属捕捉剂，所述重金属捕捉剂的质量比为0.5-2%。
3.根据权利要求1所述研磨抛光浆料，其特征在于：还包括葡萄糖酸钠，所述葡萄糖酸钠的质量比为1.5-2.5%。
4.根据权利要求2所述研磨抛光浆料，其特征在于：有机酸包括柠檬酸、醋酸、草酸、苯甲酸、苹果酸、抗坏血酸、酒石酸中的一种或者两种以上的混合物。
5.根据权利要求1所述研磨抛光浆料，其特征在于：重金属捕捉剂为黄原酸酯类、二硫代胺基甲酸盐类衍生物或其凝胶。
6.根据权利要求1所述研磨抛光浆料，其特征在于：浆料的细度为2500目以上。
7.根据权利要求1所述研磨抛光浆料，其特征在于：采用吐温0.05%加0.2%聚乙二醇配比，加水分散及微溶二氧化硅成为浆料。
8.根据权利要求1所述研磨抛光浆料，其特征在于：先配制二氧化硅微粉分散及微溶到水中，配成质量比为20%二氧化硅的浆料；再配制含有质量为2.2±0.2%二氧化硅浆料。
9.一种镜面板制备方法，其特征在于：研磨抛光机采用权利要求1至8任一所述的研磨抛光浆料，通过研磨抛光机对不锈钢面板进行镜面抛光。
10.根据权利要求9所述镜面板制备方法，其特征在于：研磨抛光浆料从研磨抛光机的磨头的中央加料。
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