[发明专利]可减缓溶剂回流至涂布头内的涂布机及浸泡方法有效
| 申请号: | 202010252482.5 | 申请日: | 2020-04-01 |
| 公开(公告)号: | CN113492080B | 公开(公告)日: | 2022-11-18 |
| 发明(设计)人: | 徐启敏;张志安 | 申请(专利权)人: | 阳程科技股份有限公司 |
| 主分类号: | B05B15/55 | 分类号: | B05B15/55 |
| 代理公司: | 北京科龙寰宇知识产权代理有限责任公司 11139 | 代理人: | 马鑫 |
| 地址: | 中国台*** | 国省代码: | 台湾;71 |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 减缓 溶剂 回流 布头 涂布机 浸泡 方法 | ||
1.一种可减缓溶剂回流至涂布头内的涂布机,该涂布机的机台上为设置有供被涂布件定位的涂布平台,并于该机台上安装有用以带动一涂布头位移来将涂料自喷嘴喷出在该被涂布件表面上形成一涂布膜的驱动装置,以及清洗单元的浸泡槽,且该浸泡槽内储存有供该喷嘴的模唇浸泡进行清洗的溶剂,其特征在于:
该浸泡槽内为设置有一弹性体,用以供该驱动装置带动该涂布头使模唇下方的唇口向下抵压于该弹性体上一起浸泡在该溶剂中,且该唇口与该弹性体接触的部位为位于该溶剂的液面高度之下。
2.如权利要求1所述可减缓溶剂回流至涂布头内的涂布机,其特征在于:该清洗单元的弹性体包含至少一个胶条,且该胶条是一橡胶、硅胶、聚四氟乙烯(铁氟龙)、氟橡胶或乳胶。
3.如权利要求1所述可减缓溶剂回流至涂布头内的涂布机,其特征在于:该涂料是光阻剂、聚酰亚胺(PI)、聚酰胺酰亚胺(PAI)、聚3,4-二氧乙基噻吩(PEDOT)、紫外光(UV)胶、聚偏氟二乙烯(PVDF)或钙钛矿(Perovskite)。
4.如权利要求1所述可减缓溶剂回流至涂布头内的涂布机,其特征在于:该溶剂是丙二醇单甲基醚酯(PGMEA)、丁酮(MEK)、二甲基乙酰胺(DMAC)、丙酮(Acetone)、乙醇(酒精)、水、聚二甲基硅氧烷(PDMS)或二甲基甲酰胺(DMF)。
5.一种可减缓溶剂回流至涂布头内的浸泡方法,其特征在于:适用于一涂布机,该涂布机的机台上为设置有供被涂布件定位的涂布平台,并于机台上安装有用以带动涂布头一位移的驱动装置,以及清洗单元的浸泡槽,且该浸泡槽内储存有溶剂及设置于该浸泡槽内的弹性体,该浸泡方法包括下列的实施步骤:
(A)该驱动装置带动该涂布头的喷嘴朝该涂布平台上定位的该被涂布件方向移动,并由该喷嘴来将涂料自模唇下方的唇口喷出在该被涂布件表面上形成一涂布膜;
(B)该驱动装置带动该涂布头移动至该浸泡槽上方且对应于该弹性体处,并使该喷嘴的唇口向下抵压于该弹性体上一起浸泡在该浸泡槽内的溶剂中。
6.如权利要求5所述可减缓溶剂回流至涂布头内的浸泡方法,其特征在于:该清洗单元的弹性体包含至少一个胶条,且该胶条是一橡胶、硅胶、聚四氟乙烯(铁氟龙)、氟橡胶或乳胶。
7.如权利要求5所述可减缓溶剂回流至涂布头内的浸泡方法,其特征在于:该涂料是光阻剂、聚酰亚胺(PI)、聚酰胺酰亚胺(PAI)、聚3,4-二氧乙基噻吩(PEDOT)、紫外光(UV)胶、聚偏氟二乙烯(PVDF)或钙钛矿(Perovskite)。
8.如权利要求5所述可减缓溶剂回流至涂布头内的浸泡方法,其特征在于:该溶剂是丙二醇单甲基醚酯(PGMEA)、丁酮(MEK)、二甲基乙酰胺(DMAC)、丙酮(Acetone)、乙醇(酒精)、水、聚二甲基硅氧烷(PDMS)或二甲基甲酰胺(DMF)。
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