[发明专利]垂直存储器装置在审
申请号: | 202010249947.1 | 申请日: | 2020-04-01 |
公开(公告)号: | CN112117283A | 公开(公告)日: | 2020-12-22 |
发明(设计)人: | 赵源锡 | 申请(专利权)人: | 三星电子株式会社 |
主分类号: | H01L27/11568 | 分类号: | H01L27/11568;H01L27/11582;H01L27/11563 |
代理公司: | 北京铭硕知识产权代理有限公司 11286 | 代理人: | 刘灿强;韩芳 |
地址: | 韩国京畿*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 垂直 存储器 装置 | ||
1.一种垂直存储器装置,所述垂直存储器装置包括:
栅电极,设置在基底上并且在与基底的上表面基本上垂直的竖直方向上彼此间隔开;
沟道,在竖直方向上延伸并且与栅电极相邻地定位;
隧道绝缘图案,设置在沟道的外侧壁的部分上,沟道的外侧壁的所述部分与栅电极中的每个相邻;
电荷俘获图案结构,设置在栅电极中的每个与隧道绝缘图案之间,电荷俘获图案结构中的每个包括在竖直方向上彼此间隔开的上电荷俘获图案和下电荷俘获图案;以及
阻挡图案结构,设置在栅电极中的每个与电荷俘获图案结构之间,
其中,沟道的与隧道绝缘图案相邻的第一部分在与基底的上表面基本上平行的水平方向上具有比沟道的其它部分的厚度小的厚度。
2.根据权利要求1所述的垂直存储器装置,其中,隧道绝缘图案包括突出部分,所述突出部分与隧道绝缘图案的任何其它部分相比在水平方向上更加朝向相邻的栅电极突出。
3.根据权利要求2所述的垂直存储器装置,其中:
隧道绝缘图案的突出部分形成在隧道绝缘图案的在竖直方向上的中心部分上,并且
上电荷俘获图案和下电荷俘获图案通过突出部分在竖直方向上彼此间隔开。
4.根据权利要求2所述的垂直存储器装置,其中:
阻挡图案结构中的每个包括在竖直方向上彼此间隔开的上第一阻挡图案和下第一阻挡图案;并且
上第一阻挡图案和下第一阻挡图案通过突出部分在竖直方向上彼此间隔开。
5.根据权利要求4所述的垂直存储器装置,其中,上第一阻挡图案和下第一阻挡图案中的每个的外侧壁具有沿着水平方向的凹进形状。
6.根据权利要求1所述的垂直存储器装置,其中:
隧道绝缘图案包括从沟道的外侧壁沿着水平方向顺序地堆叠的第一部分至第三部分,第一部分在竖直方向上具有第一宽度,第二部分在竖直方向上具有第二宽度,第三部分在竖直方向上具有第三宽度;并且
第一宽度比第二宽度大,第二宽度比第三宽度大。
7.根据权利要求6所述的垂直存储器装置,其中:
隧道绝缘图案的第一部分的内侧壁接触沟道并且在竖直方向上延伸;并且
隧道绝缘图案的第三部分在水平方向上从第二部分朝向相邻的栅电极突出。
8.根据权利要求1所述的垂直存储器装置,其中,上电荷俘获图案和下电荷俘获图案中的每个的外侧壁具有沿着水平方向的凹进形状。
9.根据权利要求1所述的垂直存储器装置,其中,隧道绝缘图案包括在竖直方向上彼此间隔开的多个隧道绝缘图案。
10.根据权利要求9所述的垂直存储器装置,其中:
隧道绝缘图案的最上面的表面比与该隧道绝缘图案对应的电荷俘获图案结构的最上面的表面和与该隧道绝缘图案对应的阻挡图案结构的最上面的表面高;并且
隧道绝缘图案的最下面的表面比与该隧道绝缘图案对应的电荷俘获图案结构和阻挡图案结构的最下面的表面低。
11.根据权利要求1所述的垂直存储器装置,所述垂直存储器装置还包括:
第二阻挡图案,覆盖栅电极中的每个的上表面、下表面和一个侧壁,栅电极的所述一个侧壁与沟道相邻,
其中,第二阻挡图案与隧道绝缘图案和阻挡图案结构直接接触。
12.根据权利要求1所述的垂直存储器装置,其中,栅电极中的每个的与沟道相邻的一个侧壁是沿着水平方向凹进的。
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H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L27-00 由在一个共用衬底内或其上形成的多个半导体或其他固态组件组成的器件
H01L27-01 .只包括有在一公共绝缘衬底上形成的无源薄膜或厚膜元件的器件
H01L27-02 .包括有专门适用于整流、振荡、放大或切换的半导体组件并且至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的;包括至少有一个跃变势垒或者表面势垒的无源集成电路单元的
H01L27-14 . 包括有对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射或者微粒子辐射并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或适用于通过这样的辐射控制电能的半导体组件的
H01L27-15 .包括专门适用于光发射并且包括至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的半导体组件
H01L27-16 .包括含有或不含有不同材料结点的热电元件的;包括有热磁组件的