[发明专利]激光预处理系统及方法

权利要求书

1.一种激光预处理系统，其特征在于，包括：激光脉冲产生装置以及用于放置目标光学元件的样品台，

所述激光脉冲产生装置用于输出预设整形激光脉冲，照射到放置于所述样品台上的目标光学元件，对所述目标光学元件表面进行激光预处理，其中，所述预设整形激光脉冲包括在前的第一子脉冲和在后的第二子脉冲，所述第一子脉冲的脉宽大于所述第二子脉冲的脉宽，且所述第一子脉冲的最大强度小于所述第二子脉冲的最大强度。

2.根据权利要求1所述的系统，其特征在于，所述第一子脉冲的脉宽在1-10纳秒范围内，所述第二子脉冲的脉宽在10-900皮秒范围内。

3.根据权利要求1所述的系统，其特征在于，所述第二子脉冲的最大强度是所述第一子脉冲最大强度的2倍到500倍。

4.根据权利要求1所述的系统，其特征在于，所述激光脉冲产生装置包括：脉冲产生模块，所述脉冲产生模块包括激光器、幅度调制器和波形发生器，所述幅度调制器与所述波形发生器连接，

所述激光器用于产生种子激光输入到所述幅度调制器；

所述幅度调制器用于在所述波形发生器产生的预设整形电脉冲驱动下，对所述种子激光进行调制，以形成所述预设整形激光脉冲。

5.根据权利要求4所述的系统，其特征在于，所述激光脉冲产生装置还包括脉冲放大模块，所述脉冲放大模块用于对所述脉冲产生模块输出的种子整形脉冲进行放大，以形成所述预设整形激光脉冲。

6.根据权利要求4所述的系统，其特征在于，所述激光脉冲产生装置还包括：倍频模块，

所述倍频模块用于对所述脉冲产生模块输出的种子整形脉冲进行倍频处理，以形成所述预设整形激光脉冲。

7.根据权利要求1所述的系统，其特征在于，所述系统还包括能量控制模块，所述能量控制模块设置于所述激光脉冲产生装置与所述目标光学元件之间的光传播路径上，用于调节照射到所述目标光学元件表面的预设整形激光脉冲的能量大小。

8.根据权利要求7所述的系统，其特征在于，所述能量控制模块包括1/2波片和偏振片，所述激光脉冲产生装置输出的预设整形激光脉冲依次经所述1/2波片以及所述偏振片入射到所述目标光学元件。

9.根据权利要求1所述的系统，其特征在于，所述目标光学元件为光功率激光装置中的晶体元件。

10.一种激光预处理方法，其特征在于，所述方法包括：

控制样品台将置于所述样品台上的目标光学元件移动到预设位置；

控制激光脉冲产生装置输出预设整形激光脉冲，照射到目标光学元件表面的目标区域，对所述目标区域进行激光预处理，其中，所述整形激光脉冲包括在前的第一子脉冲和在后的第二子脉冲，所述第一子脉冲的脉宽大于所述第二子脉冲的脉宽，且所述第一子脉冲的最大强度小于所述第二子脉冲的最大强度。