[发明专利]银纳米片团簇阵列及其制备方法

权利要求书

1.一种银纳米片团簇阵列的制备方法，其特征在于，包括如下步骤：

（1）制备单层PS球胶体薄膜；

（2）获取PS球模板/硅片，其步骤为：获取PS球模板/硅片的步骤如下：将载有单层PS球胶体薄膜的载玻片缓慢以45^°浸入水中，将所述薄膜附着在硅片上，获得PS球模板/硅片；

（3）对PS球模板/硅片进行等离子刻蚀；

（4）热蒸发沉积铜；

（5）去除单层PS球模板，得到铜三角阵列；

（6）将铜三角阵列在硝酸银与柠檬酸的混合溶液中反应，即可获得所述的银纳米片团簇阵列。

2.如权利要求1所述的方法，其特征在于，在载玻片上采用气-液-固相界面自组装方法制备单层PS球胶体薄膜。

3. 如权利要求1或2所述的方法，其特征在于，在载玻片上采用气-液-固相界面自组装方法制备单层PS球胶体薄膜，其具体步骤如下：将PS球悬浮液和乙醇按体积比1:1超声均匀混合，取洁净载玻片，在载玻片上采用气-液-固相界面自组装方法制备单层PS球胶体薄膜，其中，PS球的直径为1 μm，PS球悬浮液浓度为2.5wt%。

4.如权利要求1所述的方法，其特征在于，等离子刻蚀时间9min。

5.如权利要求1所述的方法，其特征在于，等离子刻蚀时间为3min。

6. 如权利要求1所述的方法，其特征在于，采用热蒸发法沉积铜，沉积厚度为200 nm。

7.如权利要求1所述的方法，其特征在于，通过在有机溶剂中浸泡去除PS球模板。

8.如权利要求1所述的方法，其特征在于，铜三角阵列在硝酸银与柠檬酸的混合溶液中反应时间是30min。

9.如权利要求1所述的方法，其特征在于，混合溶液中，硝酸银浓度是1mM-100mM。

10.如权利要求1所述的方法，其特征在于，混合溶液中，硝酸银浓度是10mM。

11.如权利要求1所述的方法，其特征在于，混合溶液中，柠檬酸浓度是5mM-100 mM。

12.如权利要求1所述的方法，其特征在于，混合溶液中，柠檬酸浓度是50mM。

13.如权利要求1-12任一所述的方法制备的银纳米片团簇阵列。