[发明专利]一种抗水腐蚀的难熔金属钼表面处理方法有效
| 申请号: | 202010231696.4 | 申请日: | 2020-03-27 |
| 公开(公告)号: | CN111421144B | 公开(公告)日: | 2021-11-19 |
| 发明(设计)人: | 丁向东;万徳才让;薛德祯;马胜强;孙院军;杨贺杰;曾毅 | 申请(专利权)人: | 西安交通大学 |
| 主分类号: | B22F9/26 | 分类号: | B22F9/26;B22F3/16;B22F3/24;C22F1/18;C22F3/00 |
| 代理公司: | 西安通大专利代理有限责任公司 61200 | 代理人: | 姚咏华 |
| 地址: | 710049 *** | 国省代码: | 陕西;61 |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 一种 腐蚀 金属 表面 处理 方法 | ||
1.一种抗水腐蚀的难熔金属钼表面处理方法,其特征在于,包括如下步骤:
1)制备钼粉
焙烧辉钼矿得到混有杂质的三氧化钼,采用氨水溶液对三氧化钼混合物进行溶解、分离和提纯,得到钼酸铵溶液;将钼酸铵溶液在一定温度下分解得到三氧化钼,在氨气气氛中还原得到纯钼粉;
2)压制成形、烧结
将纯钼粉进行单轴冷压成形得到压制板材,将压制板材毛坯在氢气气氛、烧结温度下进行无压烧结;
3)热加工与热处理
对钼板进行热轧,在氢气气氛中保温,然后在空气中进行多道双辊轧制得到板材,再进行退火处理;
步骤3)中,所述钼板中杂质为:La≤0.0009,Mg≤0.0002,Fe≤0.0023,Cr≤0.0008,Al≤0.0006;
4)制备实验样品
切割钼板样品,精细研磨并用抛光膏抛光,抛光表面用含8-12%的铁氰化钾和氢氧化钠水溶液轻微刻蚀,水清洗残留腐蚀剂;
5)离子辐照
保持样品辐照腔体内真空度,在设定的温度下采用Ar离子辐照样品表面,选择剂量为3-4*1016ion/cm2,加速电压为350-400KeV,平均原子离位能为25-35eV,得到表面处理后的钼块。
2.根据权利要求1所述的一种抗水腐蚀的难熔金属钼表面处理方法,其特征在于,所述步骤1)中,将钼酸铵溶液在450℃-500℃温度下分解。
3.根据权利要求1所述的一种抗水腐蚀的难熔金属钼表面处理方法,其特征在于,所述步骤2)中,烧结温度为1960℃下进行无压烧结6h。
4.根据权利要求1所述的一种抗水腐蚀的难熔金属钼表面处理方法,其特征在于,所述步骤3)中,在温度为1350℃下进行热轧,在氢气气氛中保温10min,去应力退火温度为850-1100℃,保温时间为40-60min。
5.根据权利要求1所述的一种抗水腐蚀的难熔金属钼表面处理方法,其特征在于,所述步骤4)中,分别利用240#,400#,800#,1200#和2000#水砂纸依次对Mo切片进行精细研磨,并用颗粒直径为0.5-1.5μm的抛光膏进行抛光。
6.根据权利要求1所述的一种抗水腐蚀的难熔金属钼表面处理方法,其特征在于,所述步骤5)中,离子入射方向与样品表面的夹角为97°。
7.根据权利要求1所述的一种抗水腐蚀的难熔金属钼表面处理方法,其特征在于,所述步骤5)中,保持离子源内灯丝电压8V,灯丝电流110A。
8.根据权利要求1所述的一种抗水腐蚀的难熔金属钼表面处理方法,其特征在于,所述步骤5)中,保持样品辐照腔体内真空度为1-3*10-7torr,温度为25-100℃。
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