[发明专利]一种利用背景污染物促进痕量铜离子生成Cu(III)的水处理方法

权利要求书

1.一种利用背景污染物促进痕量铜离子生成Cu(III)的水处理方法，其特征在于，该处理方法包括如下步骤：

S1、使用pH调节剂调节含有机污染物废水的pH，至pH值为7-10；

S2、使用pH调节剂调节含苯并三唑类污染物废水的pH，至pH值为7-10；

S3、将调节好pH的上述废水按照比例充分搅拌混合，使混合废水中苯并三唑类污染物的浓度为1-100μmol/L，除苯并三唑类以外的其他有机污染物的浓度为1-100μmol/L；

S4、向混合废水中投加单过硫酸盐使其浓度为50-1000μmol/L，然后投加Cu(II)使铜离子浓度为1-10μmol/L，在10-40℃下充分搅拌混合，即同步实现苯并三唑类污染物和其他有机污染物的去除；

其中，步骤S1、S2不分先后顺序，所述苯并三唑类污染物为1H-苯并三唑。

2.根据权利要求1所述的利用背景污染物促进痕量铜离子生成Cu(III)的水处理方法，其特征在于，步骤S1所述的有机污染物为2,4-二氯酚、1,4-二氧己环、苯并噻唑、磺胺甲恶唑、阿特拉津、甲苯中的一种或两种及以上的混合物。

3.根据权利要求1所述的利用背景污染物促进痕量铜离子生成Cu(III)的水处理方法，其特征在于，步骤S1和S2中所述的pH调节剂为氢氧化钠、碳酸氢盐、碳酸盐、硼酸盐中的至少一种。

4.根据权利要求1所述的利用背景污染物促进痕量铜离子生成Cu(III)的水处理方法，其特征在于，在步骤S3之后和步骤S4之前对待处理的混合废水进行曝气处理，曝气种类为氧气或氮气。

5.根据权利要求1所述的利用背景污染物促进痕量铜离子生成Cu(III)的水处理方法，其特征在于，步骤S4所述的单过硫酸盐为单过硫酸钾、单过硫酸钠和单过硫酸铵中的一种或两种及以上的混合物。

6.根据权利要求1所述的利用背景污染物促进痕量铜离子生成Cu(III)的水处理方法，其特征在于，步骤S4所述的Cu(II)为硫酸铜、氯化铜、硝酸铜、碳酸铜、磷酸铜中的一种或两种及以上的混合物。

7.根据权利要求5所述的利用背景污染物促进痕量铜离子生成Cu(III)的水处理方法，其特征在于，步骤S4所述的单过硫酸盐为单过硫酸钾。

8.根据权利要求6所述的利用背景污染物促进痕量铜离子生成Cu(III)的水处理方法，其特征在于，步骤S4所述的Cu(II)为硫酸铜。