[发明专利]存储器芯片中的升压转换器在审
| 申请号: | 202010227398.8 | 申请日: | 2020-03-27 |
| 公开(公告)号: | CN112133705A | 公开(公告)日: | 2020-12-25 |
| 发明(设计)人: | H.齐布冯戈泽;西川昌利 | 申请(专利权)人: | 桑迪士克科技有限责任公司 |
| 主分类号: | H01L27/11573 | 分类号: | H01L27/11573;H01L27/1157;H01L23/522 |
| 代理公司: | 北京市柳沈律师事务所 11105 | 代理人: | 邱军 |
| 地址: | 美国得*** | 国省代码: | 暂无信息 |
| 权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 存储器 芯片 中的 升压 转换器 | ||
1.一种包括片内升压转换器的非易失性存储器,包括:
第一存储器结构,所述第一存储器结构限定设置在第一基板上的控制电路,以及邻近所述控制电路设置的第一金属层,其中所述第一金属层耦接所述控制电路的元件;和
第二存储器结构,所述第二存储器结构限定设置在第二基板上的存储器阵列,以及邻近所述存储器阵列设置的第二金属层,其中所述第一金属层和所述第二金属层通过在所述第一金属层和所述第二金属层之间形成的永久性物理键合而键合在一起;和
升压转换器,所述升压转换器限定设置在所述第一金属层和所述第二金属层中的电感器,以及设置在所述控制电路中的晶体管电路。
2.根据权利要求1所述的非易失性存储器,其中所述电感器还限定耦接到电压源的第一端子和通过晶体管电路耦接到负载的第二端子。
3.根据权利要求2所述的非易失性存储器,其中所述晶体管电路还限定:
升压节点,所述升压节点耦接到所述电感器的所述第二端子;
开关,所述开关限定耦接到时钟的栅极端子、耦接到所述升压节点的第一开关端子、以及耦接到接地部的第二开关端子;和
晶体管,所述晶体管限定耦接到所述升压节点的栅极端子、耦接到所述升压节点的第一晶体管端子、以及耦接到所述负载的第二晶体管端子。
4.根据权利要求1所述的非易失性存储器,其中:
所述电感器限定耦接到电压源的第一端子和通过限定在所述控制电路中的晶体管电路耦接到负载的第二端子,所述电感器和晶体管电路形成升压转换器;并且
所述升压转换器被配置为增加所述电压源的电压量。
5.根据权利要求1所述的非易失性存储器,其中:
所述第一存储器结构限定所述电感器的第一部分,其中所述电感器的所述第一部分限定一定数量的金属层,并且
所述第二存储器结构限定所述电感器的第二部分,其中所述电感器的所述第二部分限定第二数量的金属层,其中所述金属层的第二数量小于或等于所述金属层的一定数量。
6.根据权利要求5所述的非易失性存储器,其中所述电感器的所述第二部分与虚拟存储器单元对准。
7.根据权利要求1所述的非易失性存储器,其中所述电感器包括选自以下的至少一种:铝、铜、钴,或它们的一些组合。
8.一种用于制造包括片内升压转换器的三维存储器结构的方法,包括:
通过以下步骤,使用第一工艺在第一基板上制造第一存储器结构:
在所述第一基板上形成控制电路;
将第一金属层沉积在所述控制电路上,其中所述第一金属层耦接到所述控制电路;以及
在所述第一金属层中制造电感器的第一部分;
通过以下步骤,使用第二工艺在第二基板上制造第二存储器结构:
在所述第二基板上形成限定堆叠存储器单元的存储器阵列;
将第二金属层沉积在所述存储器阵列上;以及
在所述第二金属层中制造所述电感器的第二部分;以及
通过在所述第一金属层和所述第二金属层之间形成永久键合使得所述电感器的所述第一部分和所述第二部分对齐来将所述第一存储器结构与所述第二存储器结构键合。
9.根据权利要求8所述的方法,其中所述电感器还限定耦接到电压源的第一端子和通过限定在所述控制电路中的晶体管电路耦接到负载的第二端子。
10.根据权利要求9所述的方法,其中所述晶体管电路还限定:
升压节点,所述升压节点耦接到所述电感器的所述第二端子;
开关,所述开关限定耦接到时钟的栅极端子、耦接到所述升压节点的第一开关端子、以及耦接到接地部的第二开关端子;和
晶体管,所述晶体管限定耦接到所述升压节点的栅极端子、耦接到所述升压节点的第一晶体管端子、以及耦接到所述负载的第二晶体管端子。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于桑迪士克科技有限责任公司,未经桑迪士克科技有限责任公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/202010227398.8/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:检测供应电流限值的数据存储装置
- 下一篇:快闪存储器轮询
- 同类专利
- 专利分类
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L27-00 由在一个共用衬底内或其上形成的多个半导体或其他固态组件组成的器件
H01L27-01 .只包括有在一公共绝缘衬底上形成的无源薄膜或厚膜元件的器件
H01L27-02 .包括有专门适用于整流、振荡、放大或切换的半导体组件并且至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的;包括至少有一个跃变势垒或者表面势垒的无源集成电路单元的
H01L27-14 . 包括有对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射或者微粒子辐射并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或适用于通过这样的辐射控制电能的半导体组件的
H01L27-15 .包括专门适用于光发射并且包括至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的半导体组件
H01L27-16 .包括含有或不含有不同材料结点的热电元件的;包括有热磁组件的





