[发明专利]一种耐强酸腐蚀的负性光刻胶组合物

权利要求书

1.一种耐强酸腐蚀的负性光刻胶组合物，其特征在于：包括：主体树脂、产酸剂、交联剂和溶剂；其中以所述光刻胶的总固体为基准算，所述主体树脂的量占总固体量的10-50%，所述产酸剂的量占总固体量的10-30%，所述交联剂的量占总固体量的0.4-5%，所述溶剂的量占总固体量的10-55%，所述主体树脂为酚醛树脂，所述酚醛树脂的分子量为1000-10000。

2.根据权利要求1所述的耐强酸腐蚀的负性光刻胶组合物，其特征在于：所述交联剂为三聚氰胺、三聚氰酸衍生物、三聚氰胺磷酸盐、三聚氰胺衍生物改性聚氨酯、苯代三聚氰胺中的一种或两种以上的混合物。

3.根据权利要求1所述的耐强酸腐蚀的负性光刻胶组合物，其特征在于：所述产酸剂为重氮盐、硫鎓盐、碘鎓盐、磷酸盐、三嗪类、磺酸酯、六氟锑酸盐中的一种或两种以上的混合物。

4.根据权利要求1所述的耐强酸腐蚀的负性光刻胶组合物，其特征在于：所述溶剂为丙二醇甲醚、丙二醇甲醚醋酸酯、二醇醚、乙二醇烷基醚乙酸酯、二甘醇中的一种或两种以上的混合物。

5.一种如权利要求1-4所述的耐强酸腐蚀的负性光刻胶组合物的光刻工艺，其特征在于：包括以下步骤：

（1）将所述主体树脂、产酸剂、交联剂和溶剂按比例混合，充分溶解后，用0.2微米孔径的滤膜过滤，即得到光刻胶溶液；

（2）在经处理的基片上旋涂由上述组分配制的光刻胶，用热板预烘（PAB），调节转速使干燥后的膜厚为一定厚度，透过掩膜版，通过曝光机i线曝光后，记录曝光计量；

（3）在一定温度的烘箱中进行30min中烘，用2.38wt%TMAH进行浸泡显影90s后，采用去离子水清洗后用烘箱后烘坚膜，即完成光刻工艺，得到与掩膜版遮光区互补的图形。