[发明专利]一种盖板及其制备方法、显示装置有效

专利信息
申请号: 202010218608.7 申请日: 2020-03-25
公开(公告)号: CN111402730B 公开(公告)日: 2021-11-23
发明(设计)人: 何春梅;张卓 申请(专利权)人: 武汉华星光电半导体显示技术有限公司
主分类号: G09F9/30 分类号: G09F9/30;G02F1/1335
代理公司: 深圳紫藤知识产权代理有限公司 44570 代理人: 杨艇要
地址: 430079 湖北省武汉市东湖新技术*** 国省代码: 湖北;42
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摘要:
搜索关键词: 一种 盖板 及其 制备 方法 显示装置
【权利要求书】:

1.一种盖板,其特征在于,包括

第一衬底;

第二衬底,与所述第一衬底相对设置;以及

遮光结构,设于所述第一衬底与所述第二衬底之间;

所述第一衬底包括

第一基板;以及

第一柔性层,设于所述第一基板的一侧面;

所述第二衬底包括

第二基板,与所述第一基板相对设置;以及

第二柔性层,设于所述第二基板靠近所述第一基板的侧面,所述第二柔性层填充遮光结构的空隙。

2.根据权利要求1所述的盖板,其特征在于,

所述第一衬底的厚度为30-60微米;和/或,

所述第一衬底的厚度和所述第二衬底的厚度之和为80微米。

3.根据权利要求2所述的盖板,其特征在于,

所述第一衬底的厚度与所述遮光结构的厚度比值为2~3。

4.根据权利要求1所述的盖板,其特征在于,

所述遮光结构的一侧贴附于所述第一衬底,其另一侧贴附于所述第二衬底。

5.根据权利要求1所述的盖板,其特征在于,

所述遮光结构为环形,所述第二柔性层填充所述环形内部。

6.根据权利要求1所述的盖板,其特征在于,

所述遮光结构的材料为黑色光阻或油墨。

7.一种盖板的制备方法,其特征在于,包括

提供第一基板,在所述第一基板上涂布聚酰亚胺溶液,固化后形成第一衬底;

在所述第一衬底上制备遮光结构;

在所述遮光结构上涂布一层聚酰亚胺溶液,固化后在所述遮光结构上形成第二柔性层,所述第二柔性层在涂布时,填充所述遮光结构的空隙处;

在所述第二柔性层上涂布硬质涂层形成第二衬底。

8.根据权利要求7所述的盖板的制备方法,其特征在于,

制备所述遮光结构的具体步骤包括

在所述第一衬底上制备一层黑色光阻材料,光刻蚀所述黑色光阻材料形成所述遮光结构;或

采用丝网印刷的方式在所述第一衬底上形成所述遮光结构。

9.一种显示装置,其特征在于,包括如权利要求1-6中任意一项所述的盖板。

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