[发明专利]宽高比恒定的微结构的制备方法和PDMS弹性体在审

专利信息
申请号: 202010213903.3 申请日: 2020-03-24
公开(公告)号: CN112110412A 公开(公告)日: 2020-12-22
发明(设计)人: 时权;巫金波;何仲;温维佳;张萌颖;薛厂 申请(专利权)人: 上海大学
主分类号: B81C1/00 分类号: B81C1/00;B81B7/00;G03F7/00
代理公司: 石家庄旭昌知识产权代理事务所(特殊普通合伙) 13126 代理人: 张会强
地址: 201800 上海市嘉定*** 国省代码: 上海;31
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摘要:
搜索关键词: 恒定 微结构 制备 方法 pdms 弹性体
【权利要求书】:

1.一种宽高比恒定的微结构的制备方法,其特征在于:该方法包括如下的步骤:

a.将基底表面进行疏液修饰,使被修饰的基底表面具有疏液性;

b.在所述基底具有疏液性的表面涂抹一层光刻胶,并将光刻胶层加热固化;

c.通过掩模版使紫外光选择性照射所述基底具有光刻胶层的表面,再通过显影液溶解去除被紫外光照射区域的光刻胶,以将掩模版上微结构图案复制到所述光刻胶层上;

d.通过等离子刻蚀对复制有微结构图案的所述光刻胶层进行表面处理,再将所述基底表面的光刻胶去除,以在基底表面形成亲液性的微结构图案;

e.在亲液性的所述微结构图案中填充牺牲层液体;

f.将PDMS的预聚物和固化剂按10:1质量比混合并搅拌均匀,去除气泡后倾倒在具有微结构图案的所述基体表面上;

g.在30℃条件下进行自然固化,再于55℃条件下加热使PDMS完全固化,之后将PDMS由基底上揭下,即在所述PDMS上得到宽高比恒定的微结构。

2.根据权利要求1所述的宽高比恒定的微结构的制备方法,其特征在于:所述基底为硅片或玻璃片。

3.根据权利要求1所述的宽高比恒定的微结构的制备方法,其特征在于:步骤a中采用全氟辛基三乙氧基硅烷对所述基底表面进行疏液修饰。

4.根据权利要求1所述的宽高比恒定的微结构的制备方法,其特征在于:步骤b中的所述光刻胶为正性光刻胶,且步骤d中通过丙酮、无水乙醇去除所述基底表面的光刻胶。

5.根据权利要求4所述的宽高比恒定的微结构的制备方法,其特征在于:所述光刻胶采用AZ9260光刻胶,且步骤b中为在热板上150℃加热330s将光刻胶层加热固化。

6.根据权利要求1所述的宽高比恒定的微结构的制备方法,其特征在于:所述牺牲层液体为甘油。

7.根据权利要求1所述的宽高比恒定的微结构的制备方法,其特征在于:步骤e中通过旋涂法或涂布法将牺牲层液体填充于微结构图案中。

8.根据权利要求1至7中任一项所述的宽高比恒定的微结构的制备方法,其特征在于:步骤g中为在30℃条件下进行24h的自然固化,再于55℃条件下加热1h。

9.一种PDMS弹性体,其特征在于:所述PDMS弹性体上具有由权利要求1至8中任一项所述的制备方法所制备的宽高比恒定的微结构,且所述微结构为微流道。

10.根据权利要求9所述的PDMS弹性体,其特征在于:所述PDMS弹性体应用于微流体力学或生物体血管模拟。

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