[发明专利]光学测量方法在审
申请号: | 202010201039.5 | 申请日: | 2020-03-20 |
公开(公告)号: | CN111721230A | 公开(公告)日: | 2020-09-29 |
发明(设计)人: | M·芬凯尔蒂 | 申请(专利权)人: | 科令志因伯格有限公司 |
主分类号: | G01B11/24 | 分类号: | G01B11/24 |
代理公司: | 中国贸促会专利商标事务所有限公司 11038 | 代理人: | 白皎 |
地址: | 德国许*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 光学 测量方法 | ||
1.一种用于对工件上至少一个被测对象进行光学测量的方法,所述方法包括以下方法步骤:
提供待测量的工件(2,42),其中,所述工件(2,42)包括循环对称的几何形状(4),例如齿部或类似形状;
指定所述工件(2;42)上待测量的所述至少一个被测对象;
提供具有光学测量系统(8)的测量装置(6),所述光学测量系统(8)用于对所述工件(2,42)上的所述被测对象进行非接触测量,其中,所述光学测量系统具有光学传感器(18);
使用所述光学测量系统(8)对所述工件(2,42)上的待测量的所述至少一个被测对象进行测量;
其特征在于,
提供待测量的所述工件(2,42)的至少一个几何参数;和
借助于所述工件(2,42)上待测量的所述至少一个被测对象和/或待测量的所述工件(2,42)的至少一个几何参数,确定用于执行所述光学测量的至少一个测量参数。
2.根据权利要求1所述的方法,其特征在于,
提供下面列出的所述几何参数中的一个或多个:
采集待测量的所述被测对象的最小工件半径;
采集待测量的所述被测对象的最大工件半径;
所述工件的最大半径;
所述工件的轴向高度;
所述工件的表面粗糙度。
3.根据前述权利要求中任一项所述的方法,其特征在于,
所述工件包括待测量的齿部,其中,提供下面列出的所述齿部的几何参数中的一个或多个:
模数、螺旋角、齿顶圆直径、齿根圆直径、倾斜方向、齿数。
4.根据前述权利要求中任一项所述的方法,其特征在于,
通过下面列出的步骤中的一个或多个来提供待测量的所述工件的所述至少一个几何参数:
非接触测量,例如光学测量等;
通过坐标测量机的测量探针进行触觉测量;
手动输入;
来自诸如数据库、本地存储器、便携式存储介质等数字存储器的在线或离线查询。
5.根据前述权利要求中任一项所述的方法,其特征在于,
在测量之前,确定一个或多个测量点的测量角度,
其中,如果光学系统对测量点的测量是垂直于所述工件的表面进行的,则所述测量点的测量角度为零,
其中,所述测量角度是相对于所述测量角度为零的位置进行测量的。
6.根据权利要求5所述的方法,其特征在于,
传感器特定的数据和/或用于表征测量角度对所述光学传感器的测量准确度的影响的一个或多个函数被存储在数据集中,并且
其中特别地,借助于所述测量点的所述测量角度的绝对值来调整所述测量点的至少一个测量参数。
7.根据前述权利要求中任一项所述的方法,其特征在于,
传感器特定数据和/或用于表征表面粗糙度对所述光学传感器的测量准确度的影响的一个或多个函数被存储在数据集中,并且
其中特别地,借助于所述测量点的表面粗糙度来调整所述测量点的至少一个测量参数。
8.根据前述权利要求中任一项所述的方法,其特征在于,
传感器特定数据和/或用于表征所述工件的表面吸收对所述光学传感器测量准确度的影响的一个或多个函数被存储在数据集中,并且
其中特别地,基于所述测量点的所述工件的表面吸收来调整所述测量点的至少一个测量参数。
9.根据前述权利要求中任一项所述的方法,其特征在于,
下面列出的值中的一个或多个被额外指定为用于确定所述至少一个测量参数的输入变量:
沿着第一测量部段的测量点的数量和/或沿着第二测量部段的测量点的数量;
待采集的测量区域的测量分辨率;
完成测量的最大测量持续时间。
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