[发明专利]超声处理器

权利要求书

1.双聚焦型超声处理器，其特征在于，该超声处理器包括：聚焦声透镜(1)、超声换能器(2)、样品处理槽(3)和试管支架(4)；

试管支架(4)设置于样品处理槽(3)顶部，其上设置有用以固定样品的试管放置孔，所述试管放置孔设置于聚焦声透镜(1)的聚焦区域上方；

两个聚焦声透镜(1)分别设置于样品处理槽(3)平行侧壁内侧，超声换能器(2)设置于聚焦声透镜(1)背部中心处，其对聚焦声透镜(1)进行励振，激发样品处理槽(3)内部聚焦声场以对样品进行处理；

聚焦声透镜(1)的聚焦半径不同，且聚焦声透镜(1)的聚焦半径差的绝对值不等于超声波半波长的整数倍；

所述聚焦声透镜(1)在样品处理槽(3)侧壁上的高度不同，二者在高度方向上错开一定距离，所述样品处理槽(3)为长方体，聚焦声透镜(1)设置于样品处理槽(3)的长边侧壁内侧，并沿长边侧壁延伸；

所述超声换能器(2)为超声换能器阵列，设置于样品处理槽(3)的侧壁外侧，并沿聚焦声透镜(1)延伸方向排列，样品处理槽(3)同侧的超声换能器(2)的高度相同；样品处理槽(3)两侧的超声换能器(2)并不是相向对称设置的，而是在水平方向上相互交错设置，错开或间隔设定的距离，超声换能器的工作电压为非同频激励电压；

两个聚焦声透镜(1)的激振频率不相同。

2.根据权利要求1所述的超声处理器，其特征在于，聚焦声透镜(1)的焦点位置重合。