[发明专利]一种胶囊洁净抛光机

权利要求书

1.一种胶囊洁净抛光机，其特征在于：包括机架(1)和设置在机架(1)上的进料管(11)，所述机架(1)上设置有与进料管(11)的进口连通的轴流风机(12)，所述机架(1)上安装有风选机构(2)和抛光机构(3)；

所述风选机构(2)包括风选筒(21)和剔废筒(22)，所述风选筒(21)竖直设置并与进料管(11)连通，所述风选筒(21)的内壁设有碰撞壁(212)，所述碰撞壁(212)与进料管(11)的出口正对，所述剔废筒(22)竖直设置并与风选筒(21)的上端口连通，所述剔废筒(22)的下端口密封且其下端腔为废囊腔(222)，所述剔废筒(22)的上端口连通有带有排风机(231)的出风管(23)；

所述抛光机构(3)包括抛光筒(31)和收料斗(33)，所述抛光筒(31)与风选筒(21)的下端口连通，所述抛光筒(31)内设有置于进料管(11)出口下方的碰撞组件(4)，所述收料斗(33)安装在机架(1)上并置于抛光筒(31)的出料口下方；

所述碰撞组件(4)包括底架(41)、左摆气缸(42)、右摆气缸(43)、驱动架(44)和碰撞叶轮(45)；

所述底架(41)的外沿设有三个沿底架(41)边沿均匀排列的端头，且每个端头上均设有与抛光筒(31)内壁连接的支杆(411)；

所述左摆气缸(42)和右摆气缸(43)均设为三个，三个所述左摆气缸(42)与三个右摆气缸(43)两两为一组并分别铰接于底架(41)的三个端头上，三个所述左摆气缸(42)的活塞杆与三个右摆气缸(43)的活塞杆均为交替伸缩；

所述驱动架(44)与底架(41)相适配并与底架(41)平行设置，所述底架(41)每个端头上的左摆气缸(42)和与该端头在顺时针方向的相邻端头上的右摆气缸(43)两者的活塞杆均与驱动架(44)上同一个端头铰接；

所述碰撞叶轮(45)包括底盘(451)和碰撞叶片(452)，所述底盘(451)设置于驱动架(44)上，所述碰撞叶片(452)设为多个，多个碰撞叶片(452)沿底盘(451)的中心向底盘(451)的外周延伸并均匀排列在底盘(451)上；

所述底架(41)的外沿设有竖直向上延伸至驱动架(44)外沿的保护罩(46)；

所述碰撞叶片(452)设为弹性片，所述碰撞叶片(452)的一端铰接于底盘(451)的圆心处，所述碰撞叶片(452)在靠近底盘(451)外周的一端与保护罩(46)的上端沿铰接，且底盘(451)的圆心距碰撞叶片(452)与保护罩(46)两者铰接点的间距小于碰撞叶片(452)的长度。

2.根据权利要求1所述的一种胶囊洁净抛光机，其特征在于：所述底盘(451)的表面开设有一圈沿底盘(451)的半径方向斜向下延伸的斜面(4511)。

3.根据权利要求1所述的一种胶囊洁净抛光机，其特征在于：所述抛光筒(31)的内壁设有一圈置于底盘(451)上方并向底盘(451)的圆心倾斜延伸的集料挡板(5)。

4.根据权利要求3所述的一种胶囊洁净抛光机，其特征在于：所述集料挡板(5)的下端沿连接有一圈置于底盘(451)上方并向抛光筒(31)内壁倾斜延伸的防尘挡板(6)。

5.根据权利要求1所述的一种胶囊洁净抛光机，其特征在于：所述抛光筒(31)的筒壁上设置有检修窗(311)。