[发明专利]差动光通量电桥法测量带材微位移的装置和方法在审

专利信息
申请号: 202010191246.7 申请日: 2020-03-18
公开(公告)号: CN111238378A 公开(公告)日: 2020-06-05
发明(设计)人: 陈水桥;厉位阳 申请(专利权)人: 浙江大学
主分类号: G01B11/02 分类号: G01B11/02;G01B11/16
代理公司: 杭州求是专利事务所有限公司 33200 代理人: 林超
地址: 310058 浙江*** 国省代码: 浙江;33
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 差动 光通量 电桥 测量 带材微 位移 装置 方法
【权利要求书】:

1.一种差动光通量电桥法测量带材微位移的装置,其特征在于:主要包括光源、透镜组、待测对象、电桥光电测量电路;透镜组包括第一透镜和第二透镜,待测对象为带材,带材置于第一透镜和第二透镜之间,光源发出的光束,经过第一透镜汇聚成平行光束后,再经第二透镜汇聚入射到电桥光电测量电路的光敏电阻上,经第一透镜出射的光束一部分被带材阻挡,另一部分直接入射到第二透镜,电桥光电测量电路的输出端通过转换放大器与外部计算机连接。

2.根据权利要求1所述的一种差动光通量电桥法测量带材微位移的装置,其特征在于:所述的电桥光电测量电路包括第一光敏电阻R1、第二光敏电阻R2、电阻R3、电阻R4、电阻R5、电阻R7、电阻R8和转换放大器,来自第二透镜出射的光束照射到第一光敏电阻R1上,第二光敏电阻R2完全被遮光罩遮挡,由第一光敏电阻R1、第二光敏电阻R2、电阻R3、电阻R4构成桥式电路,第一光敏电阻R1和电阻R3串联后分别接电源电压和地,第二光敏电阻R2和电阻R4串联后分别接电源电压和地,第一光敏电阻R1和电阻R2之间引出经电阻R5后连接到放大器的反相输入端,第二光敏电阻R2和电阻R4之间引出经电阻R6后连接到放大器的正相输入端,转换放大器的正相输入端经电阻R6后接地,放大器的反相输入端经电阻R8和输出端连接,将放大器的输出端输出电压发送到Arduino板,最后Arduino板接入计算机。

3.根据权利要求1所述的一种差动光通量电桥法测量带材微位移的装置,其特征在于:所述的带材为不透光的物件。

4.根据权利要求1所述的一种差动光通量电桥法测量带材微位移的装置,其特征在于:所述的带材沿垂直于光轴方向靠近/远离光轴地移动。

5.根据权利要求1所述的一种差动光通量电桥法测量带材微位移的装置,其特征在于:所述的光源、透镜组和电桥光电测量电路的光敏电阻R1同光轴布置。

6.根据权利要求1所述的一种差动光通量电桥法测量带材微位移的装置,其特征在于:所述的光敏电阻R2为遮光光敏电阻。

7.应用于权利要求1-6任一所述装置的一种差动光通量电桥法测量带材微位移的方法,其特征在于:光源发出的光束,经过第一透镜汇聚成平行光束后,再经第二透镜汇聚入射到电桥光电测量电路的光敏电阻R1上,经第一透镜出射的光束一部分被带材阻挡,另一部分直接入射到第二透镜,电桥光电测量电路的输出电流信号,经转换放大器后输出电压信号;第一透镜出射的平行光束到达第二透镜经过路径中,有一部分光线被带材遮挡,从而使得从第二透镜出射到光敏电阻受照的光通量减少,进而影响照射到第一光敏电阻R1上的光照强度,使得最后输出的电压信号产生变化;在带材沿垂直于光束的方向微位移过程中,实时采集检测电压信号,对电压信号的变化进行分析处理获得带材微位移的测量结果。

8.根据权利要求7所述的一种差动光通量电桥法测量带材微位移的方法,其特征在于:在实验测量前,移动带材使得完全遮挡第一透镜出射的光束,通过预调电桥平衡,使放大器输出端的电压U0为零。

9.根据权利要求7所述的一种差动光通量电桥法测量带材微位移的方法,其特征在于:对电压信号的变化进行分析处理获得带材微位移的测量结果,具体采用以下公式反求获得带材微位移:

U=-aeX/b+c

其中,U表示电桥光电测量电路经过转换放大器后输出的电压值,X表示带材的横截面从最大光通量到最小光通量之间的径向变化距离,a、b、c分别表示第一、第二和第三拟合参数。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于浙江大学,未经浙江大学许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/202010191246.7/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top