[发明专利]一种前瞻性相位校正平面回波成像方法有效
申请号: | 202010187891.1 | 申请日: | 2020-03-17 |
公开(公告)号: | CN111352055B | 公开(公告)日: | 2022-05-06 |
发明(设计)人: | 吴子岳;罗海;陈潇;叶洋 | 申请(专利权)人: | 无锡鸣石峻致医疗科技有限公司 |
主分类号: | G01R33/58 | 分类号: | G01R33/58 |
代理公司: | 成都高远知识产权代理事务所(普通合伙) 51222 | 代理人: | 李安霞;李佳龙 |
地址: | 214000 江苏省无*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 前瞻性 相位 校正 平面 回波 成像 方法 | ||
1.一种前瞻性相位校正平面回波成像方法,其特征在于包括以下步骤:
S100、参考数据采集,包括以下步骤:
S110、施加激发脉冲,同时在相位编码方向施加层选梯度,层选梯度的强度Gs计算公式为
其中BWrf为激发脉冲的带宽,γ为磁旋比,thickness为激发的层厚,
S120、反向施加层选回聚梯度,
S130、施加相位编码预散相梯度和相位编码梯度,
S140、在施加相位编码预散相梯度后,立即打开采样窗口,采集磁共振信号直至平面回波成像序列最后一个频率编码梯度的中间,
S150、采集到的磁共振信号共N个点,为s1,s2……sn;
S200、计算相邻两点相位差,计算公式为
其中conj()是复数共轭函数,phase()是取相位函数;
S300、计算相位编码梯度强度,相位编码梯度强度Gn的计算公式为
其中γ为磁旋比,d为激发层面与磁体中心的距离,Δt为采样时间间隔;
S400、计算相位编码梯度面积,包括以下步骤:
S410、计算第m步相位编码的面积,计算公式为
积分的起点mstart为前一个频率编码梯度的中间,积分的起点的终点mend为施加完第m步相位编码后的频率编码梯度的中间,
S420、计算相位编码梯度的平均面积Ape_mean,计算公式为
其中M表示总共有M个相位编码步;
S500、计算相位编码梯度偏差比列,计算公式为
其中εm表示第m步相位编码产生的误差;
S600、补偿相位编码梯度偏差:在平面回波成像基础上,相位编码梯度增加校正梯度,校正梯度的面积分别为A1,A2……Am;
S700、采集成像数据。
2.根据权利要求1所述的成像方法,其特征在于:步骤S110中,激发脉冲翻转角度≤90°。
3.根据权利要求1所述的成像方法,其特征在于:步骤S110中,thickness<1mm。
4.根据权利要求1所述的成像方法,其特征在于:步骤S110中,激发脉冲的中心频率的计算公式为:
f=γ·Gs·d
其中γ为磁旋比,d为激发层面与磁体中心的距离。
5.根据权利要求4所述的成像方法,其特征在于:d=50mm。
6.根据权利要求1所述的成像方法,其特征在于:步骤S120中,层选回聚梯度的面积Asr计算公式为
Asr=-As·rrefocus
其中As为层选梯度面积,rrefocus为激发脉冲的回聚比列。
7.根据权利要求1所述的成像方法,其特征在于:步骤S600中,校正梯度的面积计算公式为
Am=εm·Ape
Ape为理想的相位编码梯度面积。
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