[发明专利]一种高效型UV解黏保护膜及其制备方法

说明书

本发明公开了一种高效型UV解黏保护膜，其胶黏剂的配比包括以下重量份数的各组分：压克力胶95～105份、固化剂0.6～0.85份、光引发剂1～2份、抗静电剂1～2份和乙酸乙酯40～60份。本发明的高效型UV解黏保护膜用紫外线照射后，能大幅降低黏着力，并具备光学胶特性与良好切割性与耐温，可广泛用于晶元与PC塑类面堡上，具有高精密涂布，剪切性佳，强黏着力，高保持力的黏接性能，膜切加工性能佳。

技术领域

本发明涉及一种高效型UV解黏保护膜及其制备方法。

背景技术

在大规模集成电路的制造和半导体器件的制造加工过程中，在对晶元材料进行切割、磨削加工时，需要用一种特殊的保护膜进行粘结固定，确保芯片边沿整齐，无多角、崩边，裂纹，表面无划伤。无脏污污染，加工完毕后要求保护膜能完全剥离，不影响晶元材料本身，需要使用具有高粘度而UV光照后又迅速彻底失去粘性的UV解黏保护膜。现有技术中UV解黏保护膜存在UV解黏差的缺陷。

发明内容

本发明要解决的技术问题是克服现有技术中UV解黏保护膜存在UV解黏差的缺陷，提供一种高效型UV解黏保护膜及其制备方法。

为了解决上述技术问题，本发明提供了如下的技术方案：

一种高效型UV解黏保护膜，其胶黏剂的配比包括以下重量份数的各组分：

压克力胶95～105份

固化剂0.6～0.85份

光引发剂1～2份

抗静电剂1～2份

乙酸乙酯40～60份。

进一步的，其胶黏剂包括：

N-90压克力胶100份

L75固化剂0.73份

184光引发剂1.4份

A9抗静电剂1.5份

S0003乙酸乙酯50份。

上述高效型UV解黏保护膜的制备方法，其特征在于，在150μm哑雾PO电晕面上胶贴合50μmPETR离型面，温度设定为50-110℃，烘干过程中依次设置7个温度区段：45℃-55℃、65℃-75℃、85℃-95℃、105℃-115℃、105℃-115℃、95℃-105℃和85℃-95℃。优选的，温度设定为：50℃、70℃、90℃、110℃、110℃、100℃、90℃，厚度C/W＝20±1。

进一步的，生产在5000级洁净车间中进行，车速为30m/min。

本发明所达到的有益效果是：本发明的高效型UV解黏保护膜用紫外线照射后，能大幅降低黏着力，并具备光学胶特性与良好切割性与耐温，可广泛用于晶元与PC塑类面堡上，具有高精密涂布，剪切性佳，强黏着力，高保持力的黏接性能，膜切加工性能佳。

具体实施方式

以下对本发明的优选实施例进行说明，应当理解，此处所描述的优选实施例仅用于说明和解释本发明，并不用于限定本发明。

实施例1

一种高效型UV解黏保护膜，其胶黏剂包括以下重量份数的各组分：

N-90压克力胶95份

L75固化剂0.6份

184光引发剂1份

A9抗静电剂1份

S0003乙酸乙酯40份。