[发明专利]具有工厂接口环境控制的基板处理系统、装置和方法在审
| 申请号: | 202010179211.1 | 申请日: | 2014-08-11 |
| 公开(公告)号: | CN111508871A | 公开(公告)日: | 2020-08-07 |
| 发明(设计)人: | 苏斯汉特·S·科希特;迪安·C·赫鲁泽克;阿扬·马宗达;约翰·C·门克;海尔德·T·李;桑格兰姆·帕蒂尔;桑杰·拉贾拉姆;道格拉斯·鲍姆加滕;尼尔·梅里 | 申请(专利权)人: | 应用材料公司 |
| 主分类号: | H01L21/67 | 分类号: | H01L21/67;H01L21/677 |
| 代理公司: | 北京律诚同业知识产权代理有限公司 11006 | 代理人: | 徐金国;赵静 |
| 地址: | 美国加利*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 具有 工厂 接口 环境 控制 处理 系统 装置 方法 | ||
本文描述包含工厂接口环境控制的电子器件处理系统。一个电子器件处理系统具有工厂接口,所述工厂接口具有工厂接口腔室、与所述工厂接口耦接的装载锁定装置、与所述工厂接口耦接的一个或更多个基板载具及与所述工厂接口耦接的环境控制系统,且所述环境控制系统可操作以监视或控制所述工厂接口腔室内的以下其中一者:相对湿度、温度、氧量或惰性气体量。在另一方面,为所述工厂接口腔室内的载具净化腔室提供净化。在诸多其他方面中描述处理基板的方法。
本申请是申请日为2014年8月11日、申请号为201480043188.6、发明名称为“具有工厂接口环境控制的基板处理系统、装置和方法”的发明专利申请的分案申请。
相关申请
本申请依据专利法主张享有2013年8月12号申请的美国专利临时申请第61/865,046号且发明名称为“具有工厂接口环境控制的基板处理系统、装置和方法(SUBSTRATEPROCESSING SYSTEMS,APPARATUS,AND METHODS WITH FACTORY INTERFACE ENVIRONMENTALCONTROLS)”(代理人案号:21149/USA/L)的优先权,为了所有目的所述临时申请的内容以援引方式全文结合在此。
技术领域
本申请实施方式是关于电子器件制造,且更明确地说是关于设备前端模块(EFEM)及用于处理基板的装置、系统与方法。
背景技术
电子器件制造系统可包括多个处理腔室,这些处理腔室布置在主机壳体四周,所述主机壳体具有传送腔室及一个或更多个装载锁定腔室,所述一个或更多个装载锁定腔室配置用于传递基板至所述传送腔室中。这些系统可采用传送机器人,例如,所述传送机器人可容纳在所述传送腔室内。传送机器人可为选择性顺应关节机械臂式(selectivelycompliant articulated robot arm;SCARA)机器人或诸如此类者,且传送机器人可适于在多个腔室与一个或更多个装载锁定腔室之间传输基板。例如,所述传送机器人可将基板从处理腔室传输至处理腔室、从装载锁定腔室传输至处理腔室,及反向传送。
在半导体元件制造中,基板的处理通常在多个工具中进行,其中所述基板置于基板载具(例如,前开式标准舱,FOUP)内而在所述多个工具之间移动。所述FOUP可与EFEM(有时称为“22厂接口或FI”)对接,所述EFEM包括装载/卸载机器人,其中所述装载/卸载机器人是可操作的以在所述FOUP及所述工具的一个或更多个装载锁定之间传送基板,从而允许基板通过以供进行处理。现有的系统可从中得到效率及/或工艺质量改善的益处。
因此,期望得到在处理基板方面具有提高的效率和/或能力的系统、装置与方法。
发明内容
在一方面中,提供一种电子器件处理系统。所述电子器件处理系统包括:包括工厂接口腔室的工厂接口,与所述工厂接口耦接的装载锁定装置,与所述工厂接口耦接的一个或更多个基板载具,及与所述工厂接口耦接的环境控制系统,且所述环境控制系统可操作以监视或控制所述工厂接口腔室内的以下之一者:相对湿度、温度、O2的量或惰性气体的量。
在另一方面中,提供一种在电子器件处理系统中处理基板的方法。所述方法包括:提供工厂接口且所述工厂接口包含工厂接口腔室,与所述工厂接口对接的一个或更多个基板载具,装载锁定装置且所述装载锁定装置包含与所述工厂接口耦接的一个或更多个装载锁定腔室及可选用的(possibly)进出门(access door);及控制所述工厂接口腔室中的环境条件以符合环境先决条件(preconditions)。
在又另一方法方面中,提供一种在电子器件处理系统中处理基板的方法。所述方法包括:提供工厂接口,所述工厂接口包含工厂接口腔室,与所述工厂接口对接的一个或更多个基板载具,在所述工厂接口腔室中的一个或更多个载具净化腔室及与所述工厂接口耦接的一个或更多个装载锁定腔室;及控制所述工厂接口腔室及所述一个或更多个载具净化腔室内的环境条件。
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H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造





