[发明专利]一种基于有机增益杂化腔激光器及设计方法在审
| 申请号： | 202010178629.0 | 申请日： | 2020-03-14 |
| 公开（公告）号： | CN111490452A | 公开（公告）日： | 2020-08-04 |
| 发明（设计）人： | 邓志磊;王涛;孙嘉诚;张浩然;王高峰 | 申请（专利权）人： | 杭州电子科技大学 |
| 主分类号： | H01S5/183 | 分类号： | H01S5/183 |
| 代理公司： | 杭州君度专利代理事务所(特殊普通合伙) 33240 | 代理人： | 杨舟涛 |
| 地址： | 310018 浙*** | 国省代码： | 浙江;33 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 一种 基于 有机 增益 杂化腔 激光器 设计 方法 | ||
1.一种基于有机增益杂化腔激光器，其特征在于：激光器结构从下往上依次包括Si衬底、N型DBRs、有机染料、P型DBRs。
2.根据权利要求1所述的一种基于有机增益杂化腔激光器，其特征在于：所述的Si衬底折射率为4；其厚度为2μm，直径为6μm。
3.根据权利要求1所述的一种基于有机增益杂化腔激光器，其特征在于：所述的N型DBRs的高低折射率材料分别为Si3N4/SiO2,其折射率分别为2/1.5，Si3N4/SiO2的厚度是71.25nm/95nm，N型DBRs有18对。
4.根据权利要求1所述的一种基于有机增益杂化腔激光器，其特征在于：所述的有机染料为Rhodamine 6G，其增益谱在570nm，厚度为122.198nm。
5.根据权利要求1所述的一种基于有机增益杂化腔激光器，其特征在于：P型DBRs的高低折射率材料分别为Si3N4/SiO2,其折射率分别为2/1.5，Si3N4/SiO2的厚度是71.25nm/95nm，P型DBRs有15对。
6.根据权利要求1所述的一种基于有机增益杂化腔激光器的设计方法，其特征在于，该方法具体为：
步骤一：通过Matlab利用传输矩阵法计算布拉格反射镜的反射率，通过调节DBR对数优化使其达到最优参数，确定P型和N型DBRs的对数分别为15和18对；使其在570nm具有高于99.5％的反射率；
步骤二：利用传输矩阵法计算谐振腔的透射率找到谐振腔模式，设计腔模式为570nm，与增益谱重叠。
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