[发明专利]含银金属膜用蚀刻液组合物

权利要求书

1.一种含银或银合金金属膜用蚀刻液组合物，其中，

包含硝酸、聚磺酸、有机酸及水。

2.根据权利要求1所述的蚀刻液组合物，其中，

所述组合物包含1至20重量份的硝酸、1至40重量份的聚磺酸、1至40重量份的有机酸、及使组合物的整体重量达到100重量份的余量的水。

3.根据权利要求1所述的蚀刻液组合物，其中，

以1:0.1至1:3的质量比包含所述聚磺酸及硝酸。

4.根据权利要求3所述的蚀刻液组合物，其中，

以1:0.5至1:2的质量比包含所述聚磺酸及硝酸。

5.根据权利要求1所述的蚀刻液组合物，其中，

所述聚磺酸是包含两个以上磺酸根作用基团的聚合物。

6.根据权利要求1所述的蚀刻液组合物，其中，

所述聚磺酸是共聚物形式，包含具有下述化学式1至4的结构的单体中的一种以上及可与该单体共聚的单体：

[化学式1]

[化学式2]

[化学式3]

[化学式4]

在所述式中，

R是取代或未取代的C_1-20烷基、苄基，

R'是H或CH₃，

R是H、OH、C_1-10烷基或-R-SO₃H，其中，R是取代或未取代的C_1-20

烷基，

A是O、N或胺基，

X及Y是-OH、C_1-6烷氧基、Cl、Br或I。

7.根据权利要求6所述的蚀刻液组合物，其中，

可进行所述共聚的单体包含选自丙烯酸、n-乙烯基吡咯烷酮、二氯二甲基硅烷及二甲氧基甲基苯基硅烷的一种以上。

8.根据权利要求1所述的蚀刻液组合物，其中，

所述有机酸包含选自柠檬酸、琥珀酸、戊二酸、己二酸、庚二酸、辛二酸、苹果酸、酒石酸、乳酸、丙酸、己酸、辛酸、苯乙酸、苯甲酸、苯单羧酸、硝基苯甲酸、羟基苯甲酸、羟基苯、氨基苯甲酸、二乙酸、乳酸、丙酮酸、葡萄糖酸、乙醇酸、亚氨基二乙酸、次氮基三乙酸、乙二胺四乙酸、亚乙基三腈五乙酸、丙氨酸、谷氨酸、氨基丁酸、甘氨酸亚氨基二琥珀酸、聚亚氨基二琥珀酸及它们的盐的一种以上。

9.根据权利要求1所述的蚀刻液组合物，其中，

所述组合物进一步包含防腐剂、表面活性剂或蚀刻稳定剂的添加剂。

10.根据权利要求1所述的蚀刻液组合物，其中，

所述含银或银合金金属膜是单一膜或多层膜。