[发明专利]导电材料制成的用于钟表或珠宝的外部元件或表盘在审
| 申请号: | 202010175951.8 | 申请日: | 2020-03-13 |
| 公开(公告)号: | CN111694261A | 公开(公告)日: | 2020-09-22 |
| 发明(设计)人: | F.吉恩诺;G.基斯林 | 申请(专利权)人: | 奥米加股份有限公司 |
| 主分类号: | G04D3/00 | 分类号: | G04D3/00;G04B37/22;G04B19/12 |
| 代理公司: | 中国专利代理(香港)有限公司 72001 | 代理人: | 张一舟;王丽辉 |
| 地址: | 瑞士*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 导电 材料 制成 用于 钟表 珠宝 外部 元件 表盘 | ||
1.一种用于制造由导电材料制成的时计部件的方法,所述时计部件特别是外部元件或表盘,其中至少进行一次基本循环,以这样的顺序包括以下步骤:
-在初始步骤(100)中,由导电材料制成的基板生产基座(1),所述导电材料为金属或陶瓷或有机或复合材料,限定所述基座(1)的上层(101);
-在第一涂覆操作(200)中,用第一牺牲金属保护材料的至少第一层(2;21;22)涂覆所述基座(1);
-在第二蚀刻操作(300)中,机械地或借助于皮秒激光或飞秒激光类型的超短脉冲激光将第一凹陷装饰(3)蚀刻至至少等于所述第一牺牲金属保护层(2;21;22)的所述局部厚度的深度;
-在第二涂覆操作(400)中,用第二金属装饰处理和/或有色装饰处理材料的至少第二层(4;41;42)涂覆所述第一凹陷装饰(3)和所述第一牺牲金属保护层(2;21;22)的所述剩余部分,以形成第一中间化合物(5);
-在第一化学去除操作(500)中,通过化学方法去除每个所述第一牺牲金属保护层(2;21;22),以获得包括由所述第二层(4;41;42)的剩余部分形成的第一装饰的第一坯件(10);
-以及直接以所述第一坯件(10)的形式或通过精加工所述第一坯件(10)来制造所述时计部件,
其特征在于:
-在所述第一涂覆操作(200)期间,或分别在所述第二涂覆操作(400)期间,所述涂层至少部分地在干燥工艺中,或至少部分地通过电解或电化学方法,通过若干所述第一层(2;21;22)的叠置或不同类型的若干所述第二层(4;41;42)的分别叠置来施加;
-或在所述第一化学去除操作(500)之后,在第三涂覆操作(600)中,在电镀工艺中用所述第一牺牲金属保护材料或另一种牺牲金属保护材料的至少表面层(7)涂覆所述第一坯件(10),或在干燥工艺中用所述第一牺牲金属保护材料或另一种牺牲金属保护材料的至少第三层(6)涂覆所述第一坯件(10);
-或在所述第一涂覆操作(200)期间的同时,或分别在所述第二涂覆操作(400)期间,所述涂层至少部分地在干燥工艺中,或至少部分地通过电解或电化学方法,通过若干所述第一层(2;21;22)的叠置或不同类型的若干所述第二层(4;41;42)的分别叠置来施加,并且在所述第一化学去除操作(500)之后,在第三涂覆操作(600)中,在电镀工艺中用所述第一牺牲金属保护材料或另一种牺牲金属保护材料的至少表面层(7)来涂覆所述第一坯件(10),或在干燥工艺中用所述第一牺牲金属保护材料或另一种牺牲金属保护材料的至少第三层(6)来涂覆所述第一坯件(10)。
2.如权利要求1所述的方法,其特征在于,在所述第一涂覆操作(200)期间,以大于50纳米的第一厚度施加所述涂层。
3.如权利要求1所述的方法,其特征在于,在所述第一涂覆操作(200)期间,用至少一个所述第一牺牲金属保护层(2;21;22)对所述基座(1)进行干涂。
4.如权利要求3所述的方法,其特征在于,所述第一干涂层通过PVD或CVD或ALD真空沉积来施加。
5.如权利要求1所述的方法,其特征在于,在所述第一涂覆操作(200)期间,通过电解或电化学方法用至少一个所述第一牺牲金属保护层(2;21;22)涂覆所述基座(1)。
6.如权利要求1所述的方法,其特征在于,在用至少第二金属和/或有色装饰处理层(4;41;42)进行涂覆的所述第二涂覆操作(400)期间,以包括在50纳米和1000纳米之间的第二厚度施加所述涂层。
7.如权利要求1所述的方法,其特征在于,在所述第二涂覆操作(400)期间,用至少所述第二金属装饰处理和/或有色装饰处理层(4;41;42)对所述基座(1)进行干涂。
8.如权利要求7所述的方法,其特征在于,所述第二干涂操作(400)通过PVD或CVD或ALD真空沉积实行。
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