[发明专利]一种光学临近效应修正方法、装置、设备及介质

权利要求书

1.一种光学临近效应修正方法，其特征在于，包括：

根据目标图形的设计规则，制作测试图形光罩；

获取光学临近效应修正模型所需的数据，并建立所述光学临近效应修正模型；

获取所述测试图形的线端回缩数据，并建立线端回缩规则表，所述线端回缩规则表包括图形线宽和图形间距；

根据所述线端回缩规则表，确定初始修正值；其中，当所述图形线宽和所述图形间距的最小值均为50nm时，所述初始修正值为70nm；当所述图形线宽和所述图形间距均介于50nm~100nm之间时，所述初始修正值介于0nm~70nm之间；当所述图形线宽和所述图形间距的最大值均为100nm时，所述初始修正值为0nm；

根据所述初始修正值和所述光学临近效应修正模型对所述目标图形进行修正。

2.根据权利要求1所述的光学临近效应修正方法，其特征在于，还包括：

循环执行对所述目标图形进行修正，直至所述目标图形的线端回缩达到目标值。

3.根据权利要求1所述的光学临近效应修正方法，其特征在于，所述获取光学临近效应修正模型所需的数据，并建立所述光学临近效应修正模型之后，还包括：

验证所述光学临近效应修正模型，并比较所述光学临近效应修正模型得到的线端回缩数据与所述测试图形的线端回缩数据；

若所述光学临近效应修正模型得到的线端回缩数据与所述测试图形的线端回缩数据之差的绝对值小于或等于预设阈值，则判定所述光学临近效应修正模型符合应用条件。

4.根据权利要求3所述的光学临近效应修正方法，其特征在于，还包括：

若所述光学临近效应修正模型得到的线端回缩数据与所述测试图形的线端回缩数据之差的绝对值大于预设阈值，则进行基于模型的光学临近效应修正，直至满足所述光学临近效应修正模型得到的线端回缩数据与所述测试图形的线端回缩数据之差的绝对值小于或等于预设阈值。

5.根据权利要求1所述的光学临近效应修正方法，其特征在于，当光刻条件发生变化时，重新建立光学临近效应修正模型和线端回缩规则表。

6.根据权利要求1所述的光学临近效应修正方法，其特征在于，所述线端回缩规则表还包括一所述图形线宽和一所述图形间距对应的线端回缩长度。

7.根据权利要求6所述的光学临近效应修正方法，其特征在于，所述根据所述线端回缩规则表，确定初始修正值包括：

若所述目标图形的图形线宽和图形间距均小于所述线端回缩规则表中图形线宽和图形间距的最小值，则以所述线端回缩规则表中图形线宽和图形间距的最小值对应的线端回缩长度作为所述初始修正值；

若所述目标图形的图形线宽和图形间距均位于所述线端回缩规则表中，则以所述线端回缩规则表中对应的线端回缩长度作为所述初始修正值；

若所述目标图形的图形线宽和图形间距均大于所述线端回缩规则表中图形线宽和图形间距的最大值，则以0作为所述初始修正值。

8.一种光学临近效应修正装置，其特征在于，包括：

测试图形生成模块，用于根据目标图形的设计规则，制作测试图形光罩；

模型建立模块，用于获取光学临近效应修正模型所需的数据，并建立所述光学临近效应修正模型；

规则表建立模块，用于获取所述测试图形的线端回缩数据，并建立线端回缩规则表，所述线端回缩规则表包括图形线宽和图形间距；

初值设置模块，用于根据所述线端回缩规则表，确定初始修正值；其中，当所述图形线宽和所述图形间距的最小值均为50nm时，所述初始修正值为70nm；当所述图形线宽和所述图形间距均介于50nm~100nm之间时，所述初始修正值介于0nm~70nm之间；当所述图形线宽和所述图形间距的最大值均为100nm时，所述初始修正值为0nm；

修正模块，用于根据所述初始修正值和所述光学临近效应修正模型对所述目标图形进行修正。