[发明专利]离子生成装置及离子注入装置在审
申请号: | 202010173234.1 | 申请日: | 2020-03-13 |
公开(公告)号: | CN111710584A | 公开(公告)日: | 2020-09-25 |
发明(设计)人: | 越智秀太 | 申请(专利权)人: | 住友重机械离子科技株式会社 |
主分类号: | H01J37/32 | 分类号: | H01J37/32 |
代理公司: | 永新专利商标代理有限公司 72002 | 代理人: | 任玉敏 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 离子 生成 装置 注入 | ||
1.一种离子生成装置,其特征在于,具备:
电弧室,区划等离子体生成空间;
阴极,朝向所述等离子体生成空间释放热电子;及
反射极,隔着所述等离子体生成空间而与所述阴极相对置,
所述电弧室具有:箱形主体部,其前表面开口;及狭缝部件,安装在所述主体部的所述前表面,且设置有用于引出离子的前狭缝,
暴露于所述等离子体生成空间的所述主体部的内表面由高熔点金属材料构成,暴露于所述等离子体生成空间的所述狭缝部件的内表面由石墨构成。
2.根据权利要求1所述的离子生成装置,其特征在于,
所述阴极具有暴露于所述等离子体生成空间的阴极头,所述阴极头由比所述电弧室的所述主体部更高纯度的高熔点金属材料构成。
3.根据权利要求1或2所述的离子生成装置,其特征在于,
所述反射极具有暴露于所述等离子体生成空间的反射极头,所述反射极头由比所述电弧室的所述主体部更高纯度的高熔点金属材料构成。
4.根据权利要求2或3所述的离子生成装置,其特征在于,
所述高纯度的高熔点金属材料的高熔点金属元素的含有率为99.99重量%以上。
5.根据权利要求1至4中任一项所述的离子生成装置,其特征在于,
暴露于所述电弧室的外侧的所述狭缝部件的外表面的至少一部分由高熔点金属材料构成。
6.根据权利要求5所述的离子生成装置,其特征在于,
所述狭缝部件的所述外表面除了所述前狭缝的附近以外由高熔点金属材料构成。
7.根据权利要求1至6中任一项所述的离子生成装置,其特征在于,
所述狭缝部件具有由石墨构成的内侧部件及由高熔点金属材料构成的外侧部件,
在所述内侧部件设置有用于形成所述前狭缝的内侧开口,在所述外侧部件设置有用于形成所述前狭缝的外侧开口,
所述外侧开口的开口尺寸大于所述内侧开口的开口尺寸。
8.根据权利要求7所述的离子生成装置,其特征在于,
所述内侧部件具有设置在所述内侧开口的周缘的锥形面,以使开口尺寸从所述电弧室的内侧朝向外侧变大,
所述外侧开口的周缘设置在比使所述锥形面向所述电弧室的外侧延长而获得的假想面更远离所述前狭缝的中心的位置。
9.根据权利要求7或8所述的离子生成装置,其特征在于,
所述内侧部件在所述内侧开口的周围具有朝向所述电弧室的外侧突出的突出部,
所述外侧开口的周缘沿所述内侧部件的所述突出部的外周而设置。
10.根据权利要求9所述的离子生成装置,其特征在于,
所述外侧开口的周围的所述外侧部件的外表面的从所述电弧室的内侧朝向外侧的厚度方向的位置与暴露于所述电弧室的外侧的所述内侧部件的所述突出部的前表面一致。
11.根据权利要求7至10中任一项所述的离子生成装置,其特征在于,
所述内侧部件具有内侧卡合部,所述内侧卡合部用于与设置在所述主体部的所述前表面的主体侧卡合部卡合而限制所述前狭缝相对于所述主体部的位置。
12.根据权利要求7至11中任一项所述的离子生成装置,其特征在于,
所述外侧部件具有外侧卡合部,所述外侧卡合部用于与设置在所述主体部的外侧的卡止结构卡合而将所述狭缝部件固定在所述主体部,
所述卡止结构构成为固定所述狭缝部件时施加将所述狭缝部件朝向所述主体部拉拽的力。
13.根据权利要求7至12中任一项所述的离子生成装置,其特征在于,
所述前狭缝的主视图中,所述外侧部件的外形尺寸大于所述主体部的所述前表面的外形尺寸,所述内侧部件的外形尺寸小于所述外侧部件的外形尺寸。
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