[发明专利]一种转印方法以及转印设备

说明书

本发明涉及一种转印方法以及转印设备。首先用户提供转印平台和光学检查系统，转印平台包括支撑件和转印模具，支撑件设有多个工位，每一工位设置有转印模具，启动转印平台，支撑件带动转印模具运动，启动光学检查系统，检查转印模具的表面质量，当光学检查系统检查到转印模具的表面存在缺陷时，光学检查系统发出警报，转印平台停止运转，当转印模具的表面质量符合要求时，采用清洁件对转印模具进行清洁，清洁后，支撑件带动被检测过的转印模具运动至下一工位并进行转印加工。该转印方法可以对转印模具的表面进行在在线检查，加强对转印模具表面质量的检测，及时对有缺陷的转印模具进行更替，防止后续膜片的生产质量下降。

技术领域

本发明涉及UV转印的技术领域，特别是涉及一种转印方法以及转印设备。

背景技术

目前的电子产品后盖的纹理膜一般是通过UV转印的方式制作，但由于转印模具在转印过程中容易产生碎屑以及吸附空气中的颗粒物，容易导致转印模具遭受损伤，现有的转印方式制作过程中，转印模具的表面容易产生损伤，造成后续膜片的生产质量下降。

发明内容

基于此，有必要针对转印模具的表面容易产生损伤的问题，提供一种转印方法以及转印设备。

一种转印方法，包括以下步骤：

提供转印平台和光学检查系统，所述转印平台包括支撑件和转印模具，所述支撑件设有多个工位，每一工位设置有所述转印模具；

启动所述转印平台，所述支撑件带动所述转印模具运动；

启动所述光学检查系统，检查所述转印模具的表面质量；以及

当所述光学检查系统检查到所述转印模具的表面存在缺陷时，停止设备运转；当所述转印模具的表面质量符合要求时，所述支撑件带动被检测过的所述转印模具运动至下一工位并进行转印加工。

上述转印方法，加强对转印模具表面质量的检测，及时对有缺陷的转印模具进行更替，防止后续膜片的生产质量下降。

在其中一个实施例中，包括以下任一种方案：

所述转印模具和所述支撑件分别呈透明状，所述光学检查系统包括光学探头，所述光学探头设置于所述转印模具的背离所述支撑件的一侧；

所述转印模具和所述支撑件分别呈透明状，所述光学检查系统包括光学探头，所述光学探头设置于所述支撑件的背离所述转印模具的一侧。

在其中一个实施例中，在检查所述转印模具的表面质量的步骤中，包括：

所述支撑件能够旋转以带动所述转印模具运动，并使所述光学检查系统检查不同工位的所述转印模具；

当所述光学检查系统检查到所述转印模具的表面存在缺陷时，所述光学检查系统发出警报，所述转印平台停止运转。

在其中一个实施例中，在被检测过的所述转印模具运动至下一工位并进行转印加工之前，包括：

采用清洁件对所述转印模具进行清洁。

在其中一个实施例中，所述清洁件包括清洁胶辊和除静电风刀，所述清洁胶辊和所述除静电风刀相对设置，且在清洁所述转印模具的过程中，所述清洁胶辊、所述除静电风刀分别垂直于所述支撑件的转轴延伸方向。

一种转印设备，其特征在于，包括：

转印平台，所述转印平台为透明状，所述转印平台包括支撑件和转印模具，所述转印模具连接于所述支撑件，所述支撑件能够带动所述转印模具运动；及

光学检查系统，用于检测所述转印模具的表面质量。

在其中一个实施例中，所述转印设备还包括清洁胶辊，所述清洁胶辊能够与所述转印模具接触以清洁所述转印模具的表面。