[发明专利]一种旋转台有效
申请号: | 202010166302.1 | 申请日: | 2020-03-11 |
公开(公告)号: | CN111285031B | 公开(公告)日: | 2021-09-14 |
发明(设计)人: | 李生强;王理华 | 申请(专利权)人: | 上海精测半导体技术有限公司 |
主分类号: | B65G29/00 | 分类号: | B65G29/00;B65G47/80 |
代理公司: | 北京品源专利代理有限公司 11332 | 代理人: | 胡彬 |
地址: | 201703 上海市青浦区赵巷*** | 国省代码: | 上海;31 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 旋转 | ||
本发明公开了一种旋转台,涉及机械设备技术领域。该旋转台包括底座、载台组件和驱动机构,还包括气浮支撑机构和气浮导向机构,所述气浮导向机构包括:导套组件,所述导套组件安装在所述底座上;导轴组件,所述导轴组件的一端与所述载台组件相连,所述导轴组件的另一端穿过所述导套组件并通过所述气浮支撑机构的支撑气膜支撑于所述底座上,所述导轴组件与所述导套组件之间形成导向气膜,所述驱动机构驱动所述导轴组件相对所述导套组件旋转。该旋转台能进行无接触的旋转运动而没摩擦,能进行整周旋转来满足大行程旋转要求,精度高,运动可靠,使用灵活,调试方便,系统更可控。
技术领域
本发明涉及机械设备技术领域,尤其涉及一种旋转台。
背景技术
目前典型的旋转平台设备如图1所示,驱动单元10为驱动电机,导向单元20为接触式轴承或圆弧导轨,工作台30固定在导向单元20的运动侧,在驱动单元10的驱动下工作台30作旋转运动。该结构存在以下缺点:
1.由于接触式轴承或圆弧导轨不可避免的存在间隙,从而导致运动精度较低,尤其当工作台30尺寸较大时,精度更差;
2.接触式轴承或圆弧导轨存在摩擦力,负载越大,摩擦力越大,导致驱动单元10出力较大,同时产生的摩擦力对于控制系统也造成干扰,影响控制精度;
3.接触式轴承或圆弧导轨需要定期加注润滑脂,对净化间环境会造成一定程度的影响;
4.垂向刚度是根据负载质量和选型的接触式轴承或圆弧导轨保证,无法根据现场调试结果进行调整。
因此,如何对现有的旋转台进行改进,使其克服上述问题是本领域技术人员亟待解决的一个问题。
发明内容
本发明的目的在于提供一种旋转台,该旋转台能进行无接触的旋转运动而没摩擦,能进行整周旋转来满足大行程旋转要求,精度高,运动可靠,使用灵活,调试方便,系统更可控。
为达此目的,本发明采用以下技术方案:
一种旋转台,包括底座、载台组件和驱动机构,还包括气浮支撑机构和气浮导向机构,所述气浮导向机构包括:
导套组件,所述导套组件安装在所述底座上;
导轴组件,所述导轴组件的一端与所述载台组件相连,所述导轴组件的另一端穿过所述导套组件并能够通过所述气浮支撑机构的支撑气膜支撑于所述底座上,所述导轴组件与所述导套组件之间能够形成导向气膜,所述驱动机构驱动所述导轴组件相对所述导套组件旋转。
可选地,所述气浮支撑机构包括:
气浮支撑组件,其设置在所述导轴组件与所述底座之间,并在两者之间形成所述支撑气膜;
预紧组件,所述预紧组件被配置为在所述底座与所述载台组件和/或所述导轴组件之间产生预紧力。
可选地,所述气浮支撑组件包括:
气浮垫,所述气浮垫设置在所述导轴组件的朝向所述底座的一端,并在所述气浮垫的远离所述导轴组件的一侧形成所述支撑气膜。
可选地,所述气浮支撑组件还包括:
固定件,其与所述导轴组件(52)相连,且与所述气浮垫球铰接。
可选地,所述气浮垫上设置有进气口及出气口,所述进气口与气源相连通,所述出气口与所述进气口相连通,且所述出气口面向所述底座设置。
可选地,所述气浮垫的朝向所述底座的一侧设置有槽道,且所述槽道与所述出气口相连通。
可选地,所述预紧组件为磁预载组件,所述磁预载组件包括第一磁件及第二磁件,所述第一磁件设置在所述底座上,所述第二磁件设置在所述载台组件和/或所述导轴组件上,以在所述底座与所述载台组件和/或所述导轴组件之间产生磁吸力。
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