[发明专利]一种多孔硼亲和印迹聚合物及其制备方法和应用

权利要求书

1.一种多孔硼亲和印迹聚合物的制备方法，其特征在于，包括如下步骤：

（1）合成10%的聚苯乙烯-马来酸酐(HSMA)表面活性剂；

（2）合成雅努斯纳米片(NS-1)；

（3）NS-1 皮克林高内相乳液模板制备多孔聚合物(NS-1-HIPEs)：

将NS-1、吐温-80加入到蒸馏水中，均匀超声，依次加入丙烯酰胺、N,N-亚甲基双丙烯酰胺和过硫酸铵，搅拌使水相充分分散均匀；在搅拌下缓缓滴加液体石蜡，持续搅拌获得皮克林高内相乳液模板，水浴反应；反应后将产物取出，利用丙酮进行索氏提取，两天后分别用蒸馏水与乙醇对产物洗涤、烘干，得到块状产物NS-1-HIPEs；

（4）制备多孔硼亲和印迹吸附剂(NS-1-MIPs)：

以NS-1-HIPEs为基质，在纳米片外表面接枝硼亲和印迹聚合物。

2.根据权利要1所述的制备方法，其特征在于，步骤（3）中，所述NS-1、吐温-80、蒸馏水的用量比为150-300mg：5-50μL：1-10mL。

3.根据权利要求1所述的制备方法，其特征在于，步骤（3）中，所述丙烯酰胺的添加量为0.5-2g。

4.根据权利要求1所述的制备方法，其特征在于，步骤（3）中，所述N,N-亚甲基双丙烯酰胺的添加量为0.2-0.5g。

5.根据权利要求1所述的制备方法，其特征在于，步骤（3）中，所述过硫酸铵的添加量为10-30mg。

6.根据权利要求1所述的制备方法，其特征在于，步骤（3）中，所述液体石蜡的添加量为5-30mL。

7.根据权利要求1所述的制备方法，其特征在于，步骤（3）中，所述水浴反应的条件为：在70℃水浴加热12 h。

8.权利要求1-7任一项所述方法制备的多孔硼亲和印迹聚合物，其特征在于，所述多孔硼亲和印迹聚合物具有大孔的聚合泡沫基质，纳米硼亲和分子印迹聚合物负载在多孔的微米基质表面。

9.权利要求8所述的多孔硼亲和印迹聚合物在富集分离水中邻苯二酚的应用。