[发明专利]一种软脆光学晶体加工表层微区荧光性缺陷检测光学系统有效
申请号: | 202010158345.5 | 申请日: | 2020-03-09 |
公开(公告)号: | CN111458312B | 公开(公告)日: | 2023-03-14 |
发明(设计)人: | 程健;陈明君;赵林杰;刘伟龙;崔江;杨浩;刘启;刘志超;王健;许乔 | 申请(专利权)人: | 哈尔滨工业大学 |
主分类号: | G01N21/64 | 分类号: | G01N21/64;G01N21/95 |
代理公司: | 哈尔滨市松花江专利商标事务所 23109 | 代理人: | 李红媛 |
地址: | 150001 黑龙*** | 国省代码: | 黑龙江;23 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 光学 晶体 加工 表层 荧光 缺陷 检测 光学系统 | ||
1.一种软脆光学晶体加工表层微区荧光性缺陷检测光学系统,其特征在于:软脆光学晶体加工表层微区荧光性缺陷检测光学系统由可变波长激光器(1)、第一反射镜(2)、光阑(3)、二向色镜(4)、显微物镜(5)、晶体元件(6)、载物台(7)、白光光源(8)、第二反射镜(9)、滤光片(10)、第一透镜(11)、光纤(12)、光谱仪(13)、时间相关单光子计数器(14)、计算机(15)、第三反射镜(16)、第二透镜(17)和CCD相机(18)构成;
所述晶体元件(6)、显微物镜(5)、二向色镜(4)、第二反射镜(9)、滤光片(10)、第一透镜(11)、光纤(12)依次设置在白光光源(8)的出射光光路上,晶体元件(6)靠近白光光源(8)设置;二向色镜(4)倾斜安装使得入射光的入射角为45°;第二反射镜(9)倾斜安装使得入射光的入射角为45°;光纤(12)的入射端设置在第一透镜(11)的出射面焦点处,光纤(12)的出射端分别连接光谱仪(13)和时间相关单光子计数器(14),光谱仪(13)和时间相关单光子计数器(14)的据输出端口分别与计算机(15)的数据输入端口连接;第一反射镜(2)设置在可变波长激光器(1)的出射光光路上,第一反射镜(2)倾斜安装使得入射光的入射角为45°,第一反射镜(2)的反射光光路上设置有光阑(3),光阑(3)的出射光经二向色镜(4)反射进入显微物镜(5),显微物镜(5)的出射光聚焦在晶体元件(6)上;第二反射镜(9)的反射光光路上设置有第三反射镜(16),第三反射镜(16)的反射光光路上设置有第二透镜(17)和CCD相机(18),第二透镜(17)靠近第三反射镜(16),CCD相机(18)的接收端设置在第二透镜(17)出射焦面处,CCD相机(18)数据输出端口与计算机(15)的数据输入端口连接;所述晶体元件(6)夹持在载物台(7)上;
所述显微物镜(5)为定焦镜头,显微物镜(5)的放大倍数为100倍或200倍,显微物镜(5)的数值孔径≥0.95;
所述可变波长激光器(1)的波长调节范围为350nm-850nm,脉冲宽度小于60ps;
所述二向色镜(4)的截止波长大于可变波长激光器(1)的最大波长;
所述载物台(7)为三轴精密光学调整架,载物台(7)三轴方向的行程均不小于13mm,粗调精度优于5μm,微调精度优于0.5μm。
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