[发明专利]PECVD射频馈入电极系统及PECVD装置在审
| 申请号: | 202010157431.4 | 申请日: | 2020-03-09 |
| 公开(公告)号: | CN111218674A | 公开(公告)日: | 2020-06-02 |
| 发明(设计)人: | 邓必龙;郑利勇 | 申请(专利权)人: | 龙鳞(深圳)新材料科技有限公司 |
| 主分类号: | C23C16/505 | 分类号: | C23C16/505 |
| 代理公司: | 北京品源专利代理有限公司 11332 | 代理人: | 胡彬;潘登 |
| 地址: | 518000 广东省深圳市坪山区坪山*** | 国省代码: | 广东;44 |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | pecvd 射频 电极 系统 装置 | ||
本发明涉及化学气相沉积技术领域,具体公开了一种PECVD射频馈入电极系统及PECVD装置,该PECVD射频馈入电极系统包括射频电极片、第一电极、第二电极和两个通断控制组件,第一电极与第二电极的沿延伸方向呈夹角设置;通断控制组件包括静触端、动触端和驱动件,两个静触端均与射频电极片连接,且两个动触端分别与第一电极和第二电极连接,驱动件驱动动触端在第一位置和第二位置之间切换,可实现动触端与静触端连接或分离,因此通过对两个通断控制组件的动触端与静触端进行控制,无需拆装,即可使射频电极片与不同延伸方向第一电极或第二电极的单独连通,可有效提高工作效率。
技术领域
本发明涉及化学气相沉积技术领域,尤其涉及一种PECVD射频馈入电极系统。
背景技术
目前PECVD(Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition,等离子体增强化学气相沉积)射频馈入电极系统采用的工作电极的延伸方向通常为同一方向,较为常见的是处为水平方向或垂直方向。如若需要使PECVD射频馈入电极系统的工作电极在不同角度之间切换,需要将当前的工作电极拆卸,并更换为相应的的另一工作电极,步骤比较繁琐,且生产效率低下。
发明内容
本发明的目的在于:提供一种PECVD射频馈入电极系统及PECVD装置,以解决相关技术中的PECVD射频馈入电极系统的工作电极在不同角度之间切换时拆装步骤繁琐,且效率低下的问题。
一方面,本发明提供一种PECVD射频馈入电极系统,该PECVD射频馈入电极系统包括射频电极片、第一电极、第二电极和两个通断控制组件,所述第一电极的延伸方向与所述第二电极的延伸方向呈夹角设置;
所述通断控制组件包括静触端、动触端和驱动件,两个所述静触端均与所述射频电极片连接,且两个所述动触端分别与所述第一电极和所述第二电极连接,或者两个所述动触端均能与所述射频电极片连接,且两个所述静触端分别与所述第一电极和第二电极连接;
所述动触端具有第一位置和第二位置,所述驱动件与所述动触端连接,以驱动所述动触端在所述第一位置和所述第二位置之间切换,当所述动触端位于所述第一位置时,所述动触端与所述静触端连接,当所述动触端位于所述第二位置时,所述动触端与所述静触端分离。
作为PECVD射频馈入电极系统的优选技术方案,所述通断控制组件还包括与所述静触端连接的馈入电极,两个所述馈入电极分别与所述第一电极和所述第二电极连接,两个所述动触端均与所述射频电极片连接。
作为PECVD射频馈入电极系统的优选技术方案,所述PECVD射频馈入电极系统还包括绝缘材质制成的底座,各个所述馈入电极均固定于所述底座。
作为PECVD射频馈入电极系统的优选技术方案,所述动触端与所述静触端面接触。
作为PECVD射频馈入电极系统的优选技术方案,所述动触端和所述静触端中的一个包括插片,另一个包括插槽,当所述动触端位于所述第一位置时,所述插片与所述插槽插接,且所述插片与所述插槽的槽壁贴合。
作为PECVD射频馈入电极系统的优选技术方案,所述插槽由间隔且相对设置的两个弹性片形成,当所述动触端位于所述第一位置时,两个所述弹性片均能够抵紧所述插片。
作为PECVD射频馈入电极系统的优选技术方案,所述弹性片包括支撑片,以及连接于所述支撑片的弧形片,两个所述弹性片的所述弧形片之间形成所述插槽,当所述动触端位于所述第一位置时,两个所述弧形片均能够抵紧所述插片。
作为PECVD射频馈入电极系统的优选技术方案,两个所述动触端均能与所述射频电极片连接,且两个所述静触端分别与所述第一电极和第二电极连接,所述通断控制组件还包括弹性连接件,所述弹性连接件分别与所述动触端连接和所述射频电极片连接。
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C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
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