[发明专利]基片升降机构、基片支承器和基片处理装置

说明书

本发明提供基片升降机构、基片支承器和基片处理装置。在一个例示的实施方式的基片升降机构中，使升降销升降的驱动机构以容许升降销的水平移动的方式支承升降销。多个波纹管以包围升降销的方式沿垂直方向排列。多个波纹管包括第1波纹管和第2波纹管。第1波纹管设置于多个波纹管中最靠上的位置。第1波纹管具有作为固定端的上端和能够与升降销一起水平移动的下端。第2波纹管设置于第1波纹管的下方，能够与升降销的升降连动地在垂直方向上伸缩。限制机构限制第1波纹管的垂直方向上的伸缩。本发明能够容许升降销的水平移动且能够缩短密封升降销的周围的空间的多个波纹管的全长。

技术领域

本发明例示的实施方式涉及基片升降机构、基片支承器和基片处理装置。

背景技术

在电子器件(例如平板显示器)的制造中使用基片处理装置。一种基片处理装置记载于专利文献1。专利文献1所记载的基片处理装置包括腔室和基片载置机构。

基片载置机构包括基座、升降销和驱动部。基座设置于腔室内，构成为能够支承载置于其载置面上的基片。升降销构成为能够在其前端支承基片。升降销从腔室的内侧延伸至外侧，在腔室的外侧与驱动部连接。驱动部使升降销升降，使升降销的前端相对于载置面在上方的位置与载置面的下方的位置之间移动。升降销通过腔室的贯通孔延伸，在腔室的外侧提供凸缘。为了确保腔室的内部空间的气密性，将波纹管以包围升降销的方式设置在凸缘与腔室之间。

现有技术文献

专利文献

专利文献1：日本特开2008-60285号公报

发明内容

发明要解决的技术问题

寻求一种技术，其能够容许升降销的水平移动且缩短密封升降销周围的空间的多个波纹管的全长。

用于解决技术问题的技术方案

一个例示的实施方式中，提供一种用于使基片相对于设置于基片处理装置的腔室内的载置台的上表面升降的基片升降机构。基片升降机构包括升降销、驱动机构、多个波纹管和限制机构。升降销构成为能够在其前端支承基片。驱动机构构成为以容许升降销的水平移动的方式支承升降销，并能够使升降销升降。多个波纹管以包围升降销的方式沿垂直方向排列以密封升降销的周围的空间。多个波纹管包括第1波纹管和第2波纹管。第1波纹管设置于多个波纹管中最靠上的位置。第1波纹管具有上端和下端。第1波纹管的上端是固定端。第1波纹管的下端能够与升降销一起水平移动。第2波纹管设置于第1波纹管的下方。第2波纹管能够与升降销的升降连动地在垂直方向上伸缩。限制机构构成为能够限制第1波纹管的垂直方向上的伸缩。

发明效果

依照一个例示的实施方式，能够容许升降销的水平移动且缩短密封升降销的周围的空间的多个波纹管的全长。

附图说明

图1是概略地表示一个例示的实施方式的基片处理装置的图。

图2是一个例示的实施方式的基片升降机构的截面图。

图3是一个例示的实施方式的基片升降机构的截面图。

附图解释

50……基片升降机构

52……升降销

54……驱动机构

56……波纹管

561……第1波纹管

561a……上端

561b……下端

562……第2波纹管

58……限制机构。

具体实施方式