[发明专利]盥洗场所布置结构

说明书

本发明涉及一种盥洗场所布置结构，包括：具有盥洗盆水槽的盥洗台；包括多个排水喷嘴的第一排水装置，所述多个排水喷嘴布置在盥洗盆水槽中的喷嘴分配区域内并构造成以喷泉射流形式排出水，喷泉射流以弧形状从盥洗盆水槽向上流出；以及第二排水装置，其构造成以花洒射流形式排出水并且包括花洒射流出口主体。根据本发明，第一排水装置的喷嘴分配区域位于盥洗盆水槽的背对用户侧的后半部中，且最多跨水槽圆周的一半延伸。第二排水装置的花洒射流出口主体位于盥洗盆水槽和盥洗台的背对用户侧的后侧上，且在盥洗盆水槽和盥洗台上方的一定高度水平上。第二排水装置被构造成用于沿朝向前方倾斜地向下指向的花洒射流方向排出。一种用于浴室设置的用途。

技术领域

本发明涉及一种盥洗场所布置结构，该盥洗场所布置结构包括：盥洗台，其具有盥洗盆水槽；第一排水装置，其包括多个排水喷嘴，所述多个排水喷嘴布置在盥洗盆水槽中的喷嘴分配区域内并且被构造成用于以喷泉射流的形式排出水，该喷泉射流通过直到最大高度的向上部分以弧形式从盥洗盆水槽向上流出，并且通过向下部分向下返回到盥洗盆水槽；以及第二排水装置，其被构造成用于以花洒射流的形式排出水并且具有花洒射流出口主体。盥洗场所布置结构可例如定位在浴室中。在盥洗台处，用户可盥洗或执行各种其他身体护理措施。

背景技术

在专利公开US 7,155,759 B2和US 7,461,419 B2中公开了最初引用的类型的盥洗场所布置结构。在其中所公开的盥洗场所布置结构中，用于排出喷泉射流的排水喷嘴由盥洗盆水槽中的排水开口形成，所述排水开口以优选地不规则的图案布置在整个水槽上，或者在任何情况下在水槽的整个圆周上布置在水槽的上部区域中。排水喷嘴（具有其相关联的单独射流装置）全部都朝向盥洗盆水槽的中心区域定向，以便给出圆屋顶形的喷泉射流。关于盥洗台的面向用户的前侧（即，在这种情况下，前侧被定义为用户在他希望使用盥洗场所布置结构时通常站立以便正确使用的那一侧），呈手握式花洒形式的第二排水装置布置在盥洗台的在靠近盥洗盆水槽的那一侧处的侧部区域中，优选地连接到柔性软管并且具有被构造成提供高速花洒射流的球形花洒射流出口主体。

发明内容

本发明基于以下技术问题：提供最初引用的类型的盥洗场所布置结构，该盥洗场所布置结构提供了优于上文提到的现有技术的显著优势，特别是在其排水性质及其可能的应用和应用性质方面。

本发明通过提供具有权利要求1的特征的盥洗场所布置结构来解决这个问题。在该盥洗场所布置结构中，第一排水装置的喷嘴分配区域位于盥洗盆水槽的背对用户侧的后半部中，并且最多跨水槽圆周的一半延伸。第二排水装置的花洒射流出口主体位于盥洗盆水槽和盥洗台的背对用户侧的后侧上，并且在盥洗盆水槽和盥洗台上方的一定高度处，其中，第二排水装置被构造成用于沿朝向前方倾斜地向下指向的花洒射流方向排出花洒射流。

两个排水装置的这种特殊组合以及特定的喷泉射流和特定的花洒射流（其中花洒射流方向朝向前方倾斜地向下指向）的所得到的特殊组合给予根据本发明的盥洗场所布置结构对于许多应用来说极为有利的排水性质。第一排水装置的喷嘴分配区域在盥洗盆水槽的背离用户侧的后半部中的特殊定位以及该喷嘴分配区域在水槽圆周的最多一半上的有限延伸允许第一排水装置沿朝向用户的盥洗盆水槽和盥洗台的前面的方向提供相对有针对性的和/或良好成束的喷泉射流。特别地，借助于该喷嘴分配区域或布置在其中的排水喷嘴，喷泉射流可以设置有朝向用户指向的射流方向分量。喷嘴分配区域优选地由带状水槽区域形成，该带状水槽区域沿水槽周向方向具有更大范围（即更长的带长度）以及与其垂直的更短范围（即更小的带宽度）。与所述常规的圆屋顶状喷泉射流相比，在当前情况下，喷泉射流可提供这样的水流，即该水流在其射流路线上更加局部化并且使盥洗盆水槽的较大区域不受水流影响，使得用户在该区域中行动时不会不必要地或不期望地变湿。在分配水的区域中，喷泉射流在其射流路线上可具有相对密集的水流，用户可以将该水流有效地用于相应的应用。喷泉射流与常规的洪流射流以及使用出口配件（具有在水槽上方终止的出口管）的其他常规排水射流的不同之处在于：其路线以抛物线形式倾斜地向上且然后倾斜地向下指向；以及其由排水喷嘴喷出的大量单独射流的组合物。