[发明专利]基于水封作用方式的水幕系统优化设计方法有效

专利信息
申请号: 202010150600.1 申请日: 2020-03-06
公开(公告)号: CN111335949B 公开(公告)日: 2021-03-12
发明(设计)人: 张彬;石磊;李玉涛 申请(专利权)人: 中国地质大学(北京)
主分类号: E21F17/16 分类号: E21F17/16;E21B7/00;E21B33/13;G01V3/08
代理公司: 北京领科知识产权代理事务所(特殊普通合伙) 11690 代理人: 张玉仙
地址: 100083*** 国省代码: 北京;11
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 基于 水封 作用 方式 水幕 系统 优化 设计 方法
【说明书】:

发明提供一种基于水封作用方式的水幕系统优化设计方法,包括:(1)对水幕巷道的围岩裂隙进行评价;(2)选定水幕钻孔布设靶区;(3)对巷道断面进行瞬变电磁试验;(4)进行水幕钻孔单孔注水试验;(5)进行水幕钻孔新分型,分为I~V五种类型;(6)针对I~IV型水幕钻孔,分别进行补给作用评价和“水盖层”作用评价,对于达不到要求的区域进行补充施工水幕钻孔;针对V型水幕钻孔,进行注浆处理。采用本发明的方法可以保证在满足水封可靠性的基础上,采用钻孔流量‑压力变化特征进行水幕钻孔新分型,能够考虑钻孔所处区域岩体的状态,达到用最少量的水幕钻孔实现最好的水封效果的目的。

技术领域

本发明涉及地下水封洞库技术领域,尤其涉及一种基于水封作用方式的水幕系统优化设计方法。

背景技术

地下水封洞库是一种我国目前普遍采用的石油储备方式,具有安全、环保、造价低且环境友好等优点。水幕系统为地下水封洞库的核心组成,其作用是为了保障洞库全生命运营周期的水封安全性。在洞库设计中,水幕系统的设计(水幕钻孔间距、长度、水幕巷道的布设方式等设计参数)通常采用统一的标准。但由于岩体裂隙分布的复杂性,这种统一的设计可能会导致某些钻孔处于完整的岩体中,也可能处于非常破碎的岩体中,这样不仅会导致水幕系统不能高效地发挥作用,也不利于洞库长期的安全运营。因此,目前缺乏对地下洞库水封作用方式的关注,更缺少对基于水封作用方式的水幕系统优化设计方法的构建。

发明内容

鉴于现有技术的不足,本发明的目的在于提供一种基于水封作用方式的水幕系统优化设计方法,从而解决现有技术中缺少基于水封作用方式的水幕系统优化设计的问题。

本发明的技术方案如下:

本发明提供了一种基于水封作用方式的水幕系统优化设计方法,包括以下步骤:

(1)进行水幕巷道的开挖,在水幕巷道开挖过程中,进行地质素描,进而对水幕巷道的围岩裂隙进行评价;

(2)待水幕巷道开挖完成后,结合围岩裂隙评价结果,选定水幕钻孔布设靶区;

(3)对巷道断面进行瞬变电磁试验,以探测岩体的赋水性;

(4)进行水幕钻孔的设计和施工,水幕钻孔施工完成后,进行水幕钻孔单孔注水试验;

(5)针对注水试验结果,根据钻孔流量-压力变化特征进行水幕钻孔新分型,将水幕钻孔分为I~V五种类型;

(6)针对I~IV型水幕钻孔,分别进行补给作用评价和“水盖层”作用评价,对于补给作用及“水盖层”作用达不到要求的区域进行补充施工水幕钻孔;针对V型水幕钻孔,进行注浆处理,以利用岩体本身的密封性进行密封;

(7)完成所有补充施工水幕钻孔和注浆处理,实现水幕系统优化设计。

作为一种实施方式,所述步骤(3)对巷道断面进行瞬变电磁试验的同时,还进行3D激光扫描,以查明水幕系统裂隙岩体的情况。

作为一种实施方式,所述步骤(5)中I型水幕钻孔特征为:

其钻孔压力变化规律,第一阶段钻孔压力达到0.3MPa,在第一回落阶段,钻孔压力少许回落,变为a MPa;在第二回落阶段,钻孔压力最终基本回落到a MPa;

其钻孔注水流量变化规律,第一阶段和第二阶段开始时分别给予一定的流量b、c以维持相应的压力,之后分别以一定的流量e、f以维持压力,并且满足b<c,且b>e,c>f;e、f都不为0,b、c、e、f都相对较大。

作为一种实施方式,所述步骤(5)中II型水幕钻孔特征为:

其钻孔压力变化规律,第一阶段钻孔压力达到0.3MPa,在第一回落阶段维持在0.3MPa;第二阶段钻孔压力达到0.6MPa,在第二回落阶段,钻孔压力少许回落到a MPa,且a>0.3MPa;

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于中国地质大学(北京),未经中国地质大学(北京)许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/202010150600.1/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top