[发明专利]正型抗蚀剂组成物及图案形成方法

权利要求书

1.一种正型抗蚀剂组成物，其含有：

4.1～20质量份的(A)下式(1)表示的第1鎓盐化合物；

2.3～8.8质量份的(B)下式(2)表示的第2鎓盐化合物；

80质量份的(C)基础聚合物，该基础聚合物含有下式(a)表示的含酸不稳定基团的重复单元、及视需要的下式(b)表示的含酸不稳定基团的重复单元，且其碱溶解性会因酸而改善，但是，含有下式(b)表示的含酸不稳定基团的重复单元时，酸不稳定基团的碳数为14以上者在全部重复单元中为5摩尔％以下的话，则亦可含有；及

200～5,000质量份的(D)有机溶剂；

相对于(C)成分的基础聚合物80质量份，更含有0.8～20.0质量份的下式(3)表示的第3鎓盐化合物；

式中，R¹及R²为羟基、或亦可含有杂原子的碳数1～30的1价烃基；环R为与式中的S⁺一起形成的碳数4或5的脂环；m及n为0或1；k为0或1；Z^-为有机阴离子；

式中，A¹为氢原子或三氟甲基；R¹¹为含氮杂环基或下式(2-1)表示的基团；

式中，R¹²及R¹³各自独立地为氢原子或亦可含有杂原子的碳数1～20的1价烃基；又，R¹²及R¹³亦可彼此键结并与它们所键结的氮原子一起形成环；R¹⁴为亦可含有杂原子的碳数1～20的2价烃基；破折线为共价键；

M_A⁺为下式(2A)表示的锍阳离子或下式(2B)表示的錪阳离子；

式中，R¹⁰¹、R¹⁰²、R¹⁰³、R¹⁰⁴及R¹⁰⁵各自独立地为亦可含有杂原子的碳数1～20的1价烃基；又，R¹⁰¹、R¹⁰²及R¹⁰³中的任2个以上亦可彼此键结并与它们所键结的硫原子一起形成环；

式中，A²及A³各自独立地为氢原子或三氟甲基；q为1～3的整数；M_B⁺为锍阳离子、錪阳离子或铵阳离子；R³¹为亦可含有杂原子的碳数1～40的1价烃基；

式中，R^A为氢原子或甲基；R²¹为碳数3～8的分支状的烷基；p为1～3的整数；X^A为下式(b1)表示的基团以外的酸不稳定基团；

式中，R21及p与前述相同；破折线为共价键；

其中，所述式(1)表示的第1鎓盐化合物的阳离子为下式(1a)～(1d)表示者：

式中，m¹及m²各自独立地为1～4的整数；

式(1)中，Z^-为下式(1e)表示者；

式(1e)中，R³为亦可含有杂原子的碳数1～40的1价烃基。

2.根据权利要求1所述的正型抗蚀剂组成物，其中，X^A表示的酸不稳定基团为下式(L1)～(L3)中的任一者表示的基团；

式中，破折线为共价键；R^L01～R^L03各自独立地为氢原子或碳数1～12的烷基；R^L04为氢原子或直链状或分支状的碳数1～3的烷基；R^L05～R^L15各自独立地为氢原子或碳数1～6的1价烃基。