[发明专利]一种采用冷喷涂制备Ta/Al复合抗辐照涂层的方法在审

专利信息
申请号: 202010143441.2 申请日: 2020-03-04
公开(公告)号: CN111235563A 公开(公告)日: 2020-06-05
发明(设计)人: 熊天英;唐俊榕;杜昊;王吉强;刘晗珲;沈艳芳;杨颖;毛天亮 申请(专利权)人: 中国科学院金属研究所
主分类号: C23C24/04 分类号: C23C24/04;B22F1/00;B22F9/04;B82Y30/00
代理公司: 沈阳优普达知识产权代理事务所(特殊普通合伙) 21234 代理人: 张志伟
地址: 110016 辽*** 国省代码: 辽宁;21
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 一种 采用 喷涂 制备 ta al 复合 辐照 涂层 方法
【权利要求书】:

1.一种采用冷喷涂制备Ta/Al复合抗辐照涂层的方法,其特征在于,包括以下步骤:

(1)将Ta粉与Al粉按照质量比(0.1~20):1混合配成复合粉末;

(2)采用冷气动力喷涂设备,将制备的复合粉末喷涂到待防护器件基体表面,形成Ta/Al复合涂层。

2.按照权利要求1所述的采用冷喷涂制备Ta/Al复合抗辐照涂层的方法,其特征在于,步骤(1)中,Ta粉是纳米级的颗粒,形貌为球形,粒度范围为10~500nm。

3.按照权利要求1所述的采用冷喷涂制备Ta/Al复合抗辐照涂层的方法,其特征在于,步骤(1)中,Ta粉是微米级的颗粒,形貌为球形或不规则形状,粒度范围为10~100μm。

4.按照权利要求1所述的采用冷喷涂制备Ta/Al复合抗辐照涂层的方法,其特征在于,步骤(1)中,Al粉的形貌为球形或类球形,粒度范围为10~200μm。

5.按照权利要求1所述的采用冷喷涂制备Ta/Al复合抗辐照涂层的方法,其特征在于,步骤(1)中,复合粉末选择掺入陶瓷颗粒CeO2、ZrO2、Y2O3之一或两种以上,陶瓷颗粒为纳米量级,形貌为球形,粒度范围为10~500nm;陶瓷颗粒占复合粉末质量的1~20%,且掺入的陶瓷颗粒均匀分布。

6.按照权利要求1所述的采用冷喷涂制备Ta/Al复合抗辐照涂层的方法,其特征在于,步骤(1)中,复合粉末的配制采用球磨或机械混合2~8小时。

7.按照权利要求1所述的采用冷喷涂制备Ta/Al复合抗辐照涂层的方法,其特征在于,步骤(2)中,冷气动力喷涂使用压缩空气或氮气作为工作气体,温度180~500℃,压力1.5~4.5MPa,喷涂距离10~40mm。

8.按照权利要求1所述的采用冷喷涂制备Ta/Al复合抗辐照涂层的方法,其特征在于,步骤(2)中,待防护器件基体为金属、陶瓷或金属陶瓷复合基体,待防护器件基体表面在喷涂前进行喷砂处理。

9.按照权利要求1所述的采用冷喷涂制备Ta/Al复合抗辐照涂层的方法,其特征在于,步骤(2)中,复合涂层的Ta与Al两相分布均匀。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于中国科学院金属研究所,未经中国科学院金属研究所许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/202010143441.2/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top