[发明专利]可溶性手性非对映异构体肟酯化合物及其混合物在审

专利信息
申请号: 202010141455.0 申请日: 2020-02-25
公开(公告)号: CN113372259A 公开(公告)日: 2021-09-10
发明(设计)人: 王智刚;赵新阳 申请(专利权)人: 深圳有为技术控股集团有限公司
主分类号: C07D209/88 分类号: C07D209/88;G03F7/004
代理公司: 暂无信息 代理人: 暂无信息
地址: 518107 广东省深圳市光明新*** 国省代码: 广东;44
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 可溶性 手性 映异构体肟 酯化 及其 混合物
【说明书】:

发明涉及光固化功能新材料化学品领域,首次披露了一类手性非对映异构体性(diastereomers)肟酯化合物及其混合物,通过在其分子结构中引入多重手性中心(chiral centers)干扰其分子间识别作用,从而有效抑制其芳环母核之间的π‑π堆积(π‑πstacking)结晶效应,解决了其应用溶解度瓶颈难题。所述化合物是重要的含烯键(C=C)不饱和型可辐射聚合体系光敏引发剂。

【技术领域】

本发明涉及光固化功能新材料化学品领域,首次披露了一类手性非对映异构体性(diastereomers)肟酯化合物及其混合物,通过在其分子结构中引入多重手性中心(chiralcenters)干扰其分子间识别作用,从而有效抑制其芳环母核之间的π-π堆积(π-πstacking)结晶效应,解决了其应用溶解度瓶颈难题。所述化合物是重要的含烯键(C=C)不饱和型可辐射聚合体系光敏引发剂。

【背景技术】

某些肟酯(oxime ester)类结构的化合物是已知的含烯键不饱和型可辐射聚合体系高效光敏引发剂。其光吸收特性宽泛,从紫外短波一直延续到350-420纳米的长波波段,使得其在传统以高压汞灯为代表的紫外光源,以及以节能环保型发光二极管(LED)光源,的辐照下均展现优良的光聚合引发能力,在光固化PCB油墨,特种涂料,印刷包装油墨,胶粘剂,复合材料,光导纤维,以及TFT-LCD液晶显示等领域均拥有广泛的应用。商业化产品例如巴斯夫公司的Irgacure OXE-01和OXE-02。代表性的文献披露例如CN101014569,WO2009147033,CN101528694,CN102250115,WO2008078678等。

随着光刻技术的深入发展,对于肟酯产品的性能要求越来越高,突出地体现在溶解度和i/g/h线波长感光灵敏度两个关键指标上。由于平板显示制程等相关工业应用场合通常只固定使用拥有特定技术参数的溶剂体系,特征的例如丙二醇甲醚醋酸酯(PGMEA)或环己酮,为了确保油墨配方产品的低温贮存稳定性,这转而要求肟酯光引发剂化合物必须针对这样的固定溶剂体系展现优异的溶解性能(通常的标准是室温下溶解度必须达到重量百分比8%或以上)。

以咔唑芳杂环为骨架的肟酯化合物拥有突出的i/g/h线感光灵敏度,在应用测试中一个突出的瓶颈问题是,该类化合物在丙二醇甲醚醋酸酯或环己酮体系中难以溶解,或者,在初期加热和/或剪切式搅拌促进溶解后,在后续低温贮存过程(3-6个月)中又逐渐出现沉淀析出质量事故现象。从分子结构分析,咔唑芳杂环是典型的平面的π-电子大共轭(conjugation)体系,其分子间极易发生所谓π-π堆积(π-π stacking)结晶效应,从而诱发单体分子在低温贮存过程中发生分子间的逐渐相互识别继而堆积析出沉淀。

从分子设计理念上,如果能有效地通过结构调控,系统性地“掺杂”干扰和抑制咔唑基肟酯芳杂环大π共轭体系之间的分子识别和π-π堆积结晶效应,则有可能突破性解决上述难题。

【发明内容】

本项申请现已首次意外地发现,一类通式(I)描述的手性非对映异构体性(diastereomers)肟酯化合物,通过在分子结构中特定区域位置引入两个或两个以上的多重手性中心(chiral centers)形成非对映异构体性立体异构体混合物,手性中心的引入干扰了其分子间手性识别(chiral recognition)作用,从而有效抑制其芳环母核之间的π-π堆积(π-π stacking)效应和晶体生长,出乎意料地解决了其溶解度长期瓶颈问题。所示(I)化合物展示了高超的(22%以上)的PGMEA或环己酮溶解度,以及优异的i/g/h线波长曝光感光灵敏度。

其中X是羰基(C=O)或SO2基;

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于深圳有为技术控股集团有限公司,未经深圳有为技术控股集团有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/202010141455.0/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top