[发明专利]一种超薄软硬结合板的感光聚酰亚胺加法、减法线路工艺有效

专利信息
申请号: 202010138956.3 申请日: 2020-03-03
公开(公告)号: CN111432577B 公开(公告)日: 2023-02-17
发明(设计)人: 张成立;徐光龙;王强;杨金辉 申请(专利权)人: 宁波华远电子科技有限公司
主分类号: H05K3/46 分类号: H05K3/46;H05K1/02;H05K3/06;H05K3/34;H05K3/42
代理公司: 宁波诚源专利事务所有限公司 33102 代理人: 袁忠卫
地址: 315403 浙江*** 国省代码: 浙江;33
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 一种 超薄 软硬 结合 感光 聚酰亚胺 加法 减法 线路 工艺
【权利要求书】:

1.一种超薄软硬结合板的感光聚酰亚胺加法、减法线路工艺,其特征在于包括以下步骤:

1)选用硬质金属板作为基板,并在金属基板的硬板区域采用蚀刻、机械钻孔或者激光钻孔得到开孔;

2)对硬板区域开孔处进行树脂塞孔、研磨;

3)在金属板的两面压合第一TPI层;

4)钻孔;在开孔内加工出直径小于金属板开孔的孔,从而形成新的导通孔,并且在金属板上的第一TPI层上形成盲孔;

5)加法工艺:做沉铜和整板镀铜;

6)曝光显影:在两面压上感光干膜,两面曝光线路,实现图形转移;经显影后,去除非线路区域干膜;

7)减法工艺:蚀刻去除非线路区域干膜未覆盖的铜;

8)去除干膜,在第一TPI层上形成两面线路;

9)在电镀后线路板背面进行第二TPI层压合;

10)钻孔;在第二TPI层中形成盲孔;

11)加法工艺:做沉铜和整板镀铜,另一面贴抗电镀胶带作业;

12)曝光显影:一面压上感光干膜,另一面贴抗电镀胶带,单面曝光线路,实现图形转移;经显影后,去除非线路区域干膜;

13)减法工艺:蚀刻去除非线路区域干膜未覆盖的铜;

14)去除干膜,在第二TPI层上形成单面线路;

15)激光工艺:去除金属基板上中间非硬板区域和尾部硬板区域的第一TPI层;

16)曝光显影:在两面压上感光干膜,单面曝光,实现图形转移;经显影后,去除金属基板非硬板区域干膜;

17)蚀刻去除金属基板非硬板区域上的硬质金属板;

18)去除干膜,形成超薄软硬结合板结构;

19)丝印阻焊:印刷油墨,获得阻焊丝印层,即得到产品超薄软硬结合板。

2.根据权利要求1所述的感光聚酰亚胺加法、减法线路工艺,其特征在于:所述步骤1)硬质金属板为钢板、铜板或者镍板,其厚度90-110μm。

3.根据权利要求1所述的感光聚酰亚胺加法、减法线路工艺,其特征在于:所述步骤2)硬板区域指的是头部与尾部,此款产品以头部开孔为示例说明;研磨是将开孔孔口处树脂凸起部分进行研磨,直至树脂高度与硬质金属板平齐。

4.根据权利要求1所述的感光聚酰亚胺加法、减法线路工艺,其特征在于:所述步骤3)的第一TPI层的压合采用真空压合或普通快压,第一TPI层采用热塑聚酰亚胺材料做成,厚度为10-40μm。

5.根据权利要求1所述的感光聚酰亚胺加法、减法线路工艺,其特征在于:所述步骤4)、步骤10)的钻孔是采用激光钻孔。

6.根据权利要求1所述的感光聚酰亚胺加法、减法线路工艺,其特征在于:所述步骤5)加法工艺:做沉铜和整板镀铜,沉铜和镀铜的厚度为10-20μm。

7.根据权利要求1所述的感光聚酰亚胺加法、减法线路工艺,其特征在于:所述步骤6)曝光线路为菲林曝光或者是LDI机曝光,实现图形转移。

8.根据权利要求1所述的感光聚酰亚胺加法、减法线路工艺,其特征在于:所述步骤9)第二TPI层的压合采用真空压合或普通快压,第二TPI层采用热塑聚酰亚胺材料做成,厚度为10-40μm。

9.根据权利要求1所述的感光聚酰亚胺加法、减法线路工艺,其特征在于:所述步骤11)加法工艺:做沉铜和整板镀铜,另一面贴抗电镀胶带作业,沉铜与整板镀铜的厚度为10-20μm。

10.根据权利要求1所述的感光聚酰亚胺加法、减法线路工艺,其特征在于:所述步骤12)曝光线路为菲林曝光或者是LDI机曝光,实现图形转移;另一面贴抗电镀胶带是防止蚀刻液咬蚀线路,起保护作用。

11.根据权利要求1所述的感光聚酰亚胺加法、减法线路工艺,其特征在于:所述步骤19)印刷油墨的厚度为15-30μm。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于宁波华远电子科技有限公司,未经宁波华远电子科技有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/202010138956.3/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top