[发明专利]光栅替代件、基于光栅谱仪的靶点标定装置及标定方法有效
申请号: | 202010135580.0 | 申请日: | 2020-03-02 |
公开(公告)号: | CN111238639B | 公开(公告)日: | 2021-03-19 |
发明(设计)人: | 张敏;李奇;王军宁;薛艳博;韦明智 | 申请(专利权)人: | 中国科学院西安光学精密机械研究所 |
主分类号: | G01J3/02 | 分类号: | G01J3/02;G01J3/28;G01C1/02 |
代理公司: | 西安智邦专利商标代理有限公司 61211 | 代理人: | 史晓丽 |
地址: | 710119 陕西省西*** | 国省代码: | 陕西;61 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 光栅 替代 基于 标定 装置 方法 | ||
本发明公开了一种光栅替代件、基于光栅谱仪的靶点标定装置及标定方法,本发明是先利用一台经纬仪标出主光轴及衍射光轴,而后利用两台经纬仪的自准直及穿轴,调节模拟靶点的位置,使模拟靶点处于两台经纬仪所确定的主光轴及衍射光轴的重合点上,此时模拟靶点的位置就是光栅谱仪工作时靶点的准确位置,再通过记录瞄准节离线记录此位置,而后在线复位,即可实现光栅谱仪对靶点的精确瞄准定位。本发明提供的靶点标定方法,能在离线状态下准确标定靶点的理论位置,实现在线工作时的高精度复位,提高了靶点定位瞄准的精度,从而获得质量更高、更准确的成像效果。
技术领域
本发明属于光学实验技术领域,涉及一种光栅替代件、基于光栅谱仪的靶点标定装置及标定方法。
背景技术
光学实验及工程应用中,光栅谱仪的衍射通常需要特定的角度,靶点的瞄准也需要较高的瞄准精度,靶点的瞄准定位直接影响了光栅谱仪的衍射角度。一般情况下,靶点的定位采用机械定位方式,即采用机械固定的方式将靶点放置于瞄准的理论位置,靶点距光栅的距离一般采用长度尺测量。这种定位方式定位精度差,容易导致实际光栅的衍射角度产生较大误差,影响成像及测量结果,因此亟需提出一种可精确定位靶点位置及精确确定光栅衍射角度的光路瞄准方法。
发明内容
本发明的目的是提供一种光栅替代件、基于光栅谱仪的靶点标定装置及标定方法,以解决现有技术中存在的靶点瞄准定位精度不高,容易导致实际光栅的衍射角度产生较大误差,影响成像及测量结果的技术问题。
本发明采用的发明构思是:先利用一台经纬仪标出主光轴及衍射光轴,而后利用两台经纬仪的自准直及穿轴,调节模拟靶点的位置,使模拟靶点处于两台经纬仪所确定的主光轴及衍射光轴的重合点上,此时模拟靶点的位置就是光栅谱仪工作时靶点的准确位置,再通过记录瞄准节离线记录此位置,而后在线复位,即可实现光栅谱仪对靶点的精确瞄准定位。
本发明采用的技术方案是提供一种光栅替代件,其特殊之处在于:包括水平安装板和竖直基准板;
所述水平安装板垂直安装于竖直基准板的上方;
所述竖直基准板的定位基准面上沿竖直方向设有上十字丝和下十字丝。
进一步地,所述竖直基准板采用不锈钢制成;
为了经纬仪的自准直,所述竖直基准板的定位基准面为抛光镜面;
所述上十字丝和下十字丝由机械加工而成。
基于上述的一种光栅替代件,本发明还提供了一种基于光栅谱仪的靶点标定装置,包括模拟靶点,其特殊之处在于:
还包括设置于模拟靶点一侧的第一经纬仪组件、第二经纬仪组件,设置于模拟靶点另一侧的记录瞄准节和如上所述的光栅替代件,以及设置于模拟靶点和光栅替代件之间的衍射狭缝;
所述模拟靶点设置于靶点三维调节台上;
所述第一经纬仪组件包括第一三维调节台和设置于第一三维调节台上的第一经纬仪;
所述第二经纬仪组件包括第二三维调节台和设置于第二三维调节台上的第二经纬仪;
所述光栅替代件位于第一经纬仪和第二经纬仪的瞄准距离内;
所述记录瞄准节可离线精确记录模拟靶点的位置,并在线准确复位,实现工作时光栅谱仪瞄准靶点的精确瞄准。
进一步地,所述衍射狭缝为可进行二维微调的衍射狭缝。利用第一经纬仪俯仰特定角度,微调衍射狭缝,使第一经纬仪穿轴衍射狭缝及光栅替代件上十字丝和下十字丝,可准确标定光栅衍射工作角度,确定衍射光轴。
基于上述的一种基于光栅谱仪的靶点标定装置,本发明还提供了一种基于光栅谱仪的靶点标定方法,其特殊之处在于,包括以下步骤:
步骤1)将光栅替代件安装在指定位置;
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