[发明专利]一种静电场力耦合多级隔板水力作用去除胶体杂质的装置

权利要求书

1.一种实现静电场力耦合多级隔板水力作用去除胶体杂质的装置的方法，其特征在于，包括如下具体步骤：

S1.将污水先从沉降室的进水口注入沉降室，顺着多级导流隔板往下流动，随水流靠近沉降室底端的阳极板，使杂质从水中分离，澄清后水流则继续顺着多级导流隔板往上流动，这个过程水中杂质受到电场力作用继续往下沉淀，与水流方向相反，发生相背向分离，再次澄清的水从下隔板上部流过，经过沉降室的多级串联的处理单元反复处理去除胶体杂质后，澄清水从沉降室的出水口流出；

S2.同时沉淀的杂质污泥沿着排泥斜板滑向排泥凹槽，当排泥凹槽的杂质沉淀过多，排污装置通过浊度传感器感应自动控制排泥管上阀门的开启和关闭，再由经排泥管排出，实现水处理过程中的自动排泥；

所述静电场力耦合多级隔板水力作用去除胶体杂质的装置包括沉降室和电场发生装置，所述沉降室内设有多级导流隔板和排污装置，所述多级导流隔板分为上隔板和下隔板，所述上隔板和下隔板之间错开排布，将所述沉降室间隔成若干个彼此连通的处理单元；在所述沉降室的顶端两侧分别设有进水口和出水口；所述排污装置设置在所述处理单元的底端，所述电场发生装置设有阳极板和阴极板，所述阳极板平行设置在所述沉降室的外部底端，所述阴极板平行设置在所述沉降室的外部顶端，所述阳极板和阴极板通过外电源连接；

所述上隔板的底端与所述沉降室的内部底端的距离为d₁，所述上隔板和下隔板的间距为d₂，d₁与d₂满足d₁＝(1.4～1.7)*d₂；所述上隔板的底端为三角结构。

2.根据权利要求1所述的实现静电场力耦合多级隔板水力作用去除胶体杂质的装置的方法，其特征在于，所述下隔板的顶端与所述沉降室的内部顶端的距离为d₃，d₃与所述出水口的直径相同。

3.根据权利要求1所述的实现静电场力耦合多级隔板水力作用去除胶体杂质的装置的方法，其特征在于，所述上隔板和下隔板的长度均为所述沉降室的高度的3/5～3/4。

4.根据权利要求1所述的实现静电场力耦合多级隔板水力作用去除胶体杂质的装置的方法，其特征在于，所述排污装置包括排泥斜板、排泥凹槽和排泥管；所述排泥斜板设置在所述沉降室的内部底端，所述排泥斜板的低端与所述排泥凹槽连接，所述排泥管与所述排泥凹槽连接，在所述排泥管上设置阀门，能自动控制所述排泥管的关启，实现自动排泥。

5.根据权利要求4所述的实现静电场力耦合多级隔板水力作用去除胶体杂质的装置的方法，其特征在于，所述排泥斜板的斜率为3～5％；所述排泥凹槽的斜率为2～4％。

6.根据权利要求4所述的实现静电场力耦合多级隔板水力作用去除胶体杂质的装置的方法，其特征在于，所述排污装置还包括浊度传感器，所述浊度传感器设置在所述排泥管的进口上端；所述浊度传感器与自动排污控制装置连接，自动控制所述阀门的启动和关闭。

7.根据权利要求6所述的实现静电场力耦合多级隔板水力作用去除胶体杂质的装置的方法，其特征在于，所述自动排污控制装置包括单片机、马达和电源，所述马达和浊度传感器并联于所述单片机的工作端，所述单片机连于所述电源。