[发明专利]一种薄膜体声波谐振器在审
| 申请号: | 202010128263.6 | 申请日: | 2020-02-28 |
| 公开(公告)号: | CN111490748A | 公开(公告)日: | 2020-08-04 |
| 发明(设计)人: | 孙成亮;刘炎;蔡耀;邹杨;高超 | 申请(专利权)人: | 武汉大学 |
| 主分类号: | H03H9/17 | 分类号: | H03H9/17 |
| 代理公司: | 湖北武汉永嘉专利代理有限公司 42102 | 代理人: | 刘琰 |
| 地址: | 430072 湖*** | 国省代码: | 湖北;42 |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 一种 薄膜 声波 谐振器 | ||
1.一种薄膜体声波谐振器,其特征在于,包括:上电极、压电层、下电极、上温度补偿层、中温度补偿层和下温度补偿层;其中:
上温度补偿层内嵌于上电极中,中温度补偿层内嵌于压电层中,下温度补偿层内嵌于下电极中;
上温度补偿层、中温度补偿层和下温度补偿层由分别由任意形状的柱形结构组成;其中,柱形结构在同一平面内的间距呈周期性分布,形成上、中、下散射体;
上温度补偿层的散射体结构与上电极构成上声子晶体结构;
中温度补偿层的散射体结构与压电层构成中声子晶体结构;
下温度补偿层的散射体结构与下电极构成下声子晶体结构。
2.根据权利要求1所述的薄膜体声波谐振器,其特征在于,上温度补偿层、中温度补偿层和下温度补偿层相互独立,上、中、下散射体间距不相同,且交替分布。
3.根据权利要求1所述的薄膜体声波谐振器,其特征在于,上温度补偿层和下温度补偿层包含在上、下电极内部,或者贯穿上、下电极,中温度补偿层贯穿压电层。
4.根据权利要求1所述的薄膜体声波谐振器,其特征在于,上、中、下声子晶体结构构成三组带隙结构。
5.根据权利要求1所述的薄膜体声波谐振器,其特征在于,中声子晶体结构为二维结构,上声子晶体结构和下声子晶体结构为一维结构或者二维结构。
6.根据权利要求1所述的薄膜体声波谐振器,其特征在于,温度补偿结构为负温度系数的低声阻抗薄膜材料,包括SiO2。
7.根据权利要求1所述的薄膜体声波谐振器,其特征在于,压电层为具有压电效应的薄膜材料,包括氮化铝、氧化锌、铌酸锂。
8.根据权利要求1所述的薄膜体声波谐振器,其特征在于,底电极和顶电极均为金属薄膜,该金属薄膜为金属材料,包括钼、铂、金。
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