[发明专利]一种薄膜体声波谐振器在审

专利信息
申请号: 202010128263.6 申请日: 2020-02-28
公开(公告)号: CN111490748A 公开(公告)日: 2020-08-04
发明(设计)人: 孙成亮;刘炎;蔡耀;邹杨;高超 申请(专利权)人: 武汉大学
主分类号: H03H9/17 分类号: H03H9/17
代理公司: 湖北武汉永嘉专利代理有限公司 42102 代理人: 刘琰
地址: 430072 湖*** 国省代码: 湖北;42
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摘要:
搜索关键词: 一种 薄膜 声波 谐振器
【权利要求书】:

1.一种薄膜体声波谐振器,其特征在于,包括:上电极、压电层、下电极、上温度补偿层、中温度补偿层和下温度补偿层;其中:

上温度补偿层内嵌于上电极中,中温度补偿层内嵌于压电层中,下温度补偿层内嵌于下电极中;

上温度补偿层、中温度补偿层和下温度补偿层由分别由任意形状的柱形结构组成;其中,柱形结构在同一平面内的间距呈周期性分布,形成上、中、下散射体;

上温度补偿层的散射体结构与上电极构成上声子晶体结构;

中温度补偿层的散射体结构与压电层构成中声子晶体结构;

下温度补偿层的散射体结构与下电极构成下声子晶体结构。

2.根据权利要求1所述的薄膜体声波谐振器,其特征在于,上温度补偿层、中温度补偿层和下温度补偿层相互独立,上、中、下散射体间距不相同,且交替分布。

3.根据权利要求1所述的薄膜体声波谐振器,其特征在于,上温度补偿层和下温度补偿层包含在上、下电极内部,或者贯穿上、下电极,中温度补偿层贯穿压电层。

4.根据权利要求1所述的薄膜体声波谐振器,其特征在于,上、中、下声子晶体结构构成三组带隙结构。

5.根据权利要求1所述的薄膜体声波谐振器,其特征在于,中声子晶体结构为二维结构,上声子晶体结构和下声子晶体结构为一维结构或者二维结构。

6.根据权利要求1所述的薄膜体声波谐振器,其特征在于,温度补偿结构为负温度系数的低声阻抗薄膜材料,包括SiO2

7.根据权利要求1所述的薄膜体声波谐振器,其特征在于,压电层为具有压电效应的薄膜材料,包括氮化铝、氧化锌、铌酸锂。

8.根据权利要求1所述的薄膜体声波谐振器,其特征在于,底电极和顶电极均为金属薄膜,该金属薄膜为金属材料,包括钼、铂、金。

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