[发明专利]一种物体形状测量系统、方法和存储介质有效

专利信息
申请号: 202010110896.4 申请日: 2020-02-24
公开(公告)号: CN111238371B 公开(公告)日: 2021-06-22
发明(设计)人: 蔡长青 申请(专利权)人: 广州大学
主分类号: G01B11/00 分类号: G01B11/00;G01B11/24
代理公司: 广州嘉权专利商标事务所有限公司 44205 代理人: 黎扬鹏
地址: 510006 广东*** 国省代码: 广东;44
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摘要:
搜索关键词: 一种 物体 形状 测量 系统 方法 存储 介质
【权利要求书】:

1.一种物体形状测量系统,其特征在于,包括:

第一干涉装置,用于提供具有可变周期光谱的光源;

第二干涉装置,用于接收所述第一干涉装置所提供的光源,使得光源产生干涉作用,从而形成主参考平面和次参考平面,所述次参考平面分布在所述主参考平面两侧,对所述主参考平面或次参考平面所在位置获得成像;

控制器,用于控制所述第一干涉装置所提供光源的光谱周期,和/或控制所述第二干涉装置进行成像;

所述第一干涉装置包括:

发光器件,用于发出光线;

光耦合器,具有第一接口、第二接口、第三接口和第四接口,其中所述第一接口和第二接口位于同一侧,所述第三接口和第四接口位于同一侧;

第一光导器件,连接所述发光器件与所述光耦合器的第一接口;

第二光导器件,一端连接于所述光耦合器的第二接口,另一端用于发射光线;

第三光导器件,一端连接于所述光耦合器的第三接口,另一端连接于反射器;

第四光导器件,安装有扩展器,一端连接于所述光耦合器的第四接口,另一端连接于反射器;所述扩展器用于调整所述第四光导器件的长度;

所述第一干涉装置和第二干涉装置当中至少一个是不平衡的;

当所述第一干涉装置的光程差的绝对值比所述第一干涉装置的相干长度大得多时,所述第一干涉装置不平衡;当所述第二干涉装置的光程差的绝对值比所述第二干涉装置的相干长度大得多时,所述第二干涉装置不平衡。

2.根据权利要求1所述的系统,其特征在于,所述第二干涉装置包括:

分束器件,用于接收所述第二光导器件发射的光线并进行分束,形成第一光束和第二光束;

参考镜,用于对所述第一光束进行原路反射,使得所述第二光束的光路上形成多个啁啾信号;其中位于中央的啁啾信号所在平面为所述主参考平面,其余啁啾信号所在平面为所述次参考平面;

成像器件,用于对所述主参考平面或次参考平面所在位置获得成像。

3.根据权利要求2所述的系统,其特征在于,所述成像器件包括:

远心望远镜,其焦距可调,用于对焦在所述主参考平面或次参考平面所在位置;

CCD,用于接收所述远心望远镜的聚焦,从而实现成像。

4.根据权利要求1所述的系统,其特征在于,所述第一光导器件安装有光隔离器件。

5.根据权利要求1所述的系统,其特征在于,所述第三光导器件安装有光偏振控制器件。

6.一种物体形状测量方法,其特征在于,使用权利要求1所述的测量系统,执行以下步骤:

从所述第一干涉装置获取具有可变周期光谱的光线;

对所述光线分束,形成第一光束和第二光束;

对所述第一光束进行原路反射,使得所述第二光束的光路上形成多个啁啾信号;其中位于中央的啁啾信号所在平面为主参考平面,其余啁啾信号所在平面为次参考平面;

将被测物体放置在所述第二光束的光路上;

调整所述扩展器,使得所述第四光导器件的长度往一个方向变化,从而改变所述光线的光谱周期,使得所述主参考平面和所述次参考平面的相对位置发生变化;

在所述第二光束的光路上与被测物体相对的另一侧,保持对焦在所述次参考平面所在位置进行成像;

确定成像所得各图片上的最大干涉点,从而获得被测物体表面各点的位置信息。

7.一种存储介质,其中存储有处理器可执行的指令,其特征在于,所述处理器可执行的指令在由处理器执行时用于执行如权利要求6所述的方法。

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