[发明专利]测量装置及方法、光刻系统、曝光装置及方法

权利要求书

1.一种测量装置，在曝光处理前取得形成于基板的标记的位置信息，所述基板被保持在曝光装置所具备的基板保持具上进行所述曝光处理，其特征在于，包括：

第1检测系统，检测形成于所述基板的多个标记；

载台，在与所述基板保持具不同的保持构件上保持所述基板且能够移动；

位置测量系统，通过测量面、和将测量光束照射于所述测量面且接收来自所述测量面的光的测量构件，取得所述载台的位置信息；以及

控制装置；且

所述位置测量系统具有的所述测量面与所述测量构件的一方，设置于与设有所述保持构件的所述载台的面相反侧的所述载台的面，所述测量面与所述测量构件的另一方，设置于与所述一方对向的位置；

所述控制装置根据所述第1检测系统的检测结果、与使用所述位置测量系统取得的所述载台的位置信息，求出所述多个标记各自的位置信息。

2.根据权利要求1所述的测量装置，其特征在于，被照射所述测量光束的所述测量面上的位置、与所述第1检测系统检测标记的检测位置，在与所述载台移动的移动平面正交的同轴上。

3.根据权利要求1所述的测量装置，其特征在于，所述控制装置为了在由所述曝光装置进行的所述基板的曝光处理中进行利用，在所述曝光处理前输出所述多个标记的位置信息。

4.根据权利要求3所述的测量装置，其特征在于，所述被输出的所述多个标记的位置信息，是能够通过统计运算算出区划区域的排列信息的位置信息。

5.根据权利要求4所述的测量装置，其特征在于，所述排列信息包含所述区划区域的非线性的排列信息。

6.根据权利要求1所述的测量装置，其特征在于，所述测量装置更包括第2检测系统，该第2检测系统检测所述基板表面的高度；

所述控制装置根据所述第2检测系统的检测结果、与通过所述位置测量系统取得的所述载台的位置信息，取得所述基板表面的高度分布信息。

7.根据权利要求6所述的测量装置，其特征在于，所述控制装置为了在由所述曝光装置进行的所述基板的曝光处理中进行利用，在所述曝光处理前输出所述高度分布信息。

8.一种测量装置，在曝光处理前取得形成于基板的标记的位置信息，所述基板被保持在曝光装置所具备的基板保持具上进行所述曝光处理，其特征在于，包括：

基板调温系统，调整所述基板的温度；

载台，在与所述基板保持具不同的保持构件上保持以所述基板调温系统调温后的所述基板且能够移动；

位置测量系统，取得所述载台的位置信息；以及

第1检测系统，检测形成在被保持于所述保持构件的所述基板上的多个标记；且

根据所述第1检测系统的检测结果、与使用所述位置测量系统而取得的所述载台的位置信息，求出所述多个标记各自的位置信息。

9.根据权利要求8所述的测量装置，其特征在于，所述控制装置为了在由所述曝光装置进行的所述基板的曝光处理中进行利用，在所述曝光处理前输出所述多个标记的位置信息。

10.根据权利要求9所述的测量装置，其特征在于，所述被输出的所述多个标记的位置信息，是能够通过统计运算算出区划区域的排列信息的位置信息。

11.根据权利要求10所述的测量装置，其特征在于，所述排列信息包含所述区划区域的非线性的排列信息。

12.根据权利要求8所述的测量装置，其特征在于，所述测量装置更包括第2检测系统，该第2检测系统检测所述基板表面的高度；

所述控制装置根据所述第2检测系统的检测结果、与使用所述位置测量系统而取得的所述载台的位置信息，取得所述基板表面的高度分布信息。